[发明专利]一种镜面-单锥标准脉冲场复现系统及方法

权利要求书

1.一种镜面-单锥标准脉冲场复现系统，包括镜面-单锥子系统，其特征在于，还包括位移量监控-自动调整子系统、馈源-射频子系统、软件控制子系统和屏蔽室-温度调整子系统；

所述的镜面-单锥子系统，包括一锥体(1)和位于锥体下方的镜面(2)，该锥体(1)尖部朝下，锥底悬挂于一法兰盘(4)上；

所述的位移量监控-自动调整子系统，包括位于镜面下方的位移监控装置(5)和安装在锥底处的自动调整机构，所述的位移监控装置(5)用于监测锥尖相对于镜面的位移量；

所述的馈源-射频子系统，包括脉冲信号源(7)、示波器(8)、阻抗变换器(9)以及同轴电缆(10)，所述的阻抗变换器(9)贯穿镜面(2)，通过同轴电缆(10)把脉冲信号源(7)与阻抗变换器(9)连接，阻抗变换器(9)作为馈源使用；所述阻抗变换器(9)一端连接锥尖，另一端连接同轴电缆(10)，并且阻抗变换器(9)和同轴电缆(10)都悬挂于锥尖，随着锥尖一起移动；

所述的软件控制子系统，用于控制脉冲信号源(7)和示波器(8)，并且采集位移监控装置(5)的数据；当锥尖相对于镜面的位移量超过设定范围时，软件控制子系统控制自动调整机构对锥体角度进行微调，减小锥尖与镜面之间的变形量；

所述的屏蔽室-温度调整子系统中，屏蔽室(3)用于隔离电磁信号，温度调节子系统用于控制屏蔽室的温度，屏蔽室与位于屏蔽室下方的地板之间装有减震器(12)。

2.根据权利要求1所述的镜面-单锥标准脉冲场复现系统，其特征在于，所述的自动调整机构安装在锥底与法兰盘之间，所述的自动调整机构包括呈周向均布的两个相邻的固定支点(11)和两个相邻的电动微调机构(6)。

3.根据权利要求2所述的镜面-单锥标准脉冲场复现系统，其特征在于，所述的电动微调机构(6)采用蜗轮蜗杆式电动微调机构，其包括低速数控马达(61)、蜗轮(62)、蜗杆(63)和螺杆(64)，螺杆(64)与蜗轮(62)采用螺纹连接，低速数控马达(61)固定在法兰盘上，螺杆(64)的顶部与锥底固定连接，低速数控马达(61)驱动蜗杆(63)转动，蜗杆(63)带动蜗轮(62)旋转，由蜗轮(62)的旋转带动螺杆(64)升降，从而实现锥底局部高度的微调。

4.根据权利要求1所述的镜面-单锥标准脉冲场复现系统，其特征在于，所述的位移监控装置包括激光测距仪或接触式位移传感器，通过激光测距仪或接触式位移传感器监测锥尖相对于镜面的位移量。

5.根据权利要求1所述的镜面-单锥标准脉冲场复现系统，其特征在于，所述的软件控制子系统安装于台式电脑中。

6.一种镜面-单锥标准脉冲场复现方法，其采用权利要求1-5任一项所述的镜面-单锥标准脉冲场复现系统，其特征在于，包括步骤：

1)在悬挂于锥体尖部的馈源上安装靶标或可供观测的参考点，在馈源互相垂直的两个方向分别安装一个靶标或可供观测的参考点；

2)把激光测距仪或接触式位移传感器安装于镜面与地板之间；

3)分别测量并记录两个方向上激光测距仪或接触式位移传感器至靶标的距离或位移量，作为参考值

4)每隔一设定时间，重新测量一次x和y两个方向上的距离，记为

5)比较

6)当ΔR大于等于限值T_允许时，启动自动调整机构；

7)重复步骤4)～步骤6)，当ΔR小于限值T_允许时，视作完成当前状态下的自动监控和位置调整；

8)间隔一设定时间后，如果需要继续监测，则重复步骤4)～7)，直至不需要监控位置为止。