[发明专利]衬底支架、光刻装置、器件制造方法和制造衬底保持器的方法在审

专利信息
申请号: 201811325912.0 申请日: 2013-01-17
公开(公告)号: CN109254501A 公开(公告)日: 2019-01-22
发明(设计)人: R·拉法雷;S·唐德斯;N·坦凯特;N·德齐奥姆基纳;Y·卡瑞德;E·罗登伯格 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;郑振
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 薄膜叠层 衬底支架 光刻装置 加热器 衬底保持器 电气组件 器件制造 电极 隔离层 或逻辑 传感器 晶体管 衬底 粒结 支承 制造
【权利要求书】:

1.一种提供用于光刻装置的衬底保持器的方法,所述衬底保持器具有用于支撑衬底的多个突节,并且具有拥有粗糙上表面的突节,所述方法包括:

研磨所述突节的所述粗糙上表面以便提供平滑表面,并且

在所述平滑表面的顶部上添加层,以使得其高度大于所述多个突节的高度。

2.根据权利要求1所述的方法,其中在所述平滑表面的顶部上添加所述层包括:激光烧结。

3.根据权利要求2所述的方法,其中所述激光烧结包括:在所述平滑表面的顶部上施加粉末层,并且以辐射束选择性辐射所述粉末层,以使得所述粉末在所辐射的位置处至少部分熔化。

4.根据权利要求2所述的方法,其中所述激光烧结包括:辐射所述平滑表面上的位置,并且在所辐射的位置喷射粉末。

5.根据权利要求1所述的方法,还包括:在对受损的突节的所述粗糙上表面进行研磨期间,提供临时保护涂层以覆盖所述多个突节。

6.根据权利要去1所述的方法,还包括:清洁和/或预处理所述平滑的表面。

7.根据权利要求6所述的方法,其中使用臭氧清洁所述平滑表面。

8.根据权利要求6所述的方法,其中通过应用底漆来预处理所述平滑表面。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的方法,其中所述突节包括从由以下各项构成的组中选择的至少一种材料:Ti、Si、熔融石英、堇青石、类金刚石、SiC、SiO2、AlN、TiN以及CrN。

10.根据权利要求1-8中任一项所述的方法,其中所述突节包括基质材料和嵌在所述基质材料中的微粒。

11.根据权利要求1-8中任一项所述的方法,其中所述突节包括第一材料的第一层和第二材料的第二层,所述第二材料不同于所述第一材料。

12.根据权利要求11所述的方法,所述第一材料和所述第二材料的属性或组分不同。

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