[发明专利]衬底支架、光刻装置、器件制造方法和制造衬底保持器的方法在审
申请号: | 201811325912.0 | 申请日: | 2013-01-17 |
公开(公告)号: | CN109254501A | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | R·拉法雷;S·唐德斯;N·坦凯特;N·德齐奥姆基纳;Y·卡瑞德;E·罗登伯格 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;郑振 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜叠层 衬底支架 光刻装置 加热器 衬底保持器 电气组件 器件制造 电极 隔离层 或逻辑 传感器 晶体管 衬底 粒结 支承 制造 | ||
1.一种提供用于光刻装置的衬底保持器的方法,所述衬底保持器具有用于支撑衬底的多个突节,并且具有拥有粗糙上表面的突节,所述方法包括:
研磨所述突节的所述粗糙上表面以便提供平滑表面,并且
在所述平滑表面的顶部上添加层,以使得其高度大于所述多个突节的高度。
2.根据权利要求1所述的方法,其中在所述平滑表面的顶部上添加所述层包括:激光烧结。
3.根据权利要求2所述的方法,其中所述激光烧结包括:在所述平滑表面的顶部上施加粉末层,并且以辐射束选择性辐射所述粉末层,以使得所述粉末在所辐射的位置处至少部分熔化。
4.根据权利要求2所述的方法,其中所述激光烧结包括:辐射所述平滑表面上的位置,并且在所辐射的位置喷射粉末。
5.根据权利要求1所述的方法,还包括:在对受损的突节的所述粗糙上表面进行研磨期间,提供临时保护涂层以覆盖所述多个突节。
6.根据权利要去1所述的方法,还包括:清洁和/或预处理所述平滑的表面。
7.根据权利要求6所述的方法,其中使用臭氧清洁所述平滑表面。
8.根据权利要求6所述的方法,其中通过应用底漆来预处理所述平滑表面。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的方法,其中所述突节包括从由以下各项构成的组中选择的至少一种材料:Ti、Si、熔融石英、堇青石、类金刚石、SiC、SiO2、AlN、TiN以及CrN。
10.根据权利要求1-8中任一项所述的方法,其中所述突节包括基质材料和嵌在所述基质材料中的微粒。
11.根据权利要求1-8中任一项所述的方法,其中所述突节包括第一材料的第一层和第二材料的第二层,所述第二材料不同于所述第一材料。
12.根据权利要求11所述的方法,所述第一材料和所述第二材料的属性或组分不同。
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