[发明专利]一类具有光致变色性能的无机-有机杂化超晶格材料及其制备和用途

权利要求书

1.一种无机-有机杂化超晶格材料，其中，所述超晶格材料包括至少一层有机层和至少一层无机层，所述有机层为N,N,N’,N’-四乙基联苯胺(Et₂NC₆H₄C₆H₄NEt₂)层、N,N,N’,N’-四甲基联苯胺(Me₂NC₆H₄C₆H₄NMe₂)层或N,N,N’,N’-四甲基对苯二胺(Me₂NC₆H₄NMe₂)层中的至少一种；所述无机层为PbI₂层；所述至少一层有机层与所述至少一层无机层交替堆叠。

2.根据权利要求1所述的超晶格材料，其中，所述有机层插层在无机层中形成交替堆叠的无机-有机杂化超晶格材料。

3.根据权利要求1所述的超晶格材料，其中，所述超晶格材料中一层有机层的厚度为所述超晶格材料中一层无机层的厚度为

4.根据权利要求3所述的超晶格材料，其中，所述超晶格材料中一层有机层的厚度为所述超晶格材料中一层无机层的厚度为

5.根据权利要求4所述的超晶格材料，其中，所述超晶格材料中一层有机层的厚度为所述超晶格材料中一层无机层的厚度为

6.根据权利要求5所述的超晶格材料，其中，所述超晶格材料中一层有机层的厚度为所述超晶格材料中一层无机层的厚度为

7.根据权利要求1所述的超晶格材料，其中，所述无机-有机杂化超晶格材料中，有机层与无机层的摩尔比为1:0.1-5。

8.根据权利要求7所述的超晶格材料，其中，所述无机-有机杂化超晶格材料中，有机层与无机层的摩尔比为1:1-4.5。

9.根据权利要求8所述的超晶格材料，其中，所述无机-有机杂化超晶格材料中，有机层与无机层的摩尔比1:2-4。

10.根据权利要求9所述的超晶格材料，其中，所述无机-有机杂化超晶格材料中，有机层与无机层的摩尔比为1:4。

11.根据权利要求1-10任一项所述的超晶格材料，其中，所述无机-有机杂化超晶格材料的单胞参数为α＝90°,β＝95.72(2)°,γ＝90°,

12.根据权利要求1-10任一项所述的超晶格材料，其中，所述无机-有机杂化超晶格材料的厚度为10-1000nm。

13.根据权利要求12所述的超晶格材料，其中，所述无机-有机杂化超晶格材料的厚度为200-800nm。

14.根据权利要求13所述的超晶格材料，其中，所述无机-有机杂化超晶格材料的厚度为300-600nm。

15.根据权利要求1-10任一项所述的超晶格材料，其中，所述超晶格材料具有变色性能。

16.根据权利要求1-10任一项所述的超晶格材料，其中，所述超晶格材料具有光电导响应性能，所述超晶格材料对光电导的响应可以拓宽到红外区，但加热变色后的超晶格材料只在波长小于645nm的光下才具有光电导响应。