[发明专利]一种磁场线圈装置、磁聚焦系统及其配置方法在审
| 申请号： | 201811328497.4 | 申请日： | 2018-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN109524282A | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 吴振华;卿捷;胡旻 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | H01J3/22 | 分类号： | H01J3/22 |
| 代理公司： | 成都智弘知识产权代理有限公司 51275 | 代理人： | 陈春;丁亮 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 导磁金属壳 磁场线圈 磁场线圈装置 漏磁 磁聚焦系统 电子束通道 轴线方向 电子束 申请 电子束产生 磁场空间 聚焦作用 稳定传输 不均匀 不连续 导磁铁 强磁场 侧开 配置 聚焦 外围 传输 | ||
【权利要求书】：
1.一种磁场线圈装置，其特征在于，包括：
磁场线圈(1)和导磁金属壳(2)，所述导磁金属壳(2)包裹在所述磁场线圈(1)的外围，所述导磁金属壳(2)靠近所述磁场线圈(1)的轴线方向的一侧设有漏磁缝隙(3)，在所述导磁金属壳(2)的内部形成一沿所述磁场线圈(1)的轴线方向分布的电子束通道。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述漏磁缝隙(3)的数量为两个或两个以上，所述两个或两个以上的漏磁缝隙(3)沿所述磁场线圈(1)的轴向方向均匀排列。
3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述漏磁缝隙(3)的数量为两个或两个以上，所述两个或两个以上的漏磁缝隙(3)沿所述磁场线圈(1)的轴向方向非均匀排列。
4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述导磁金属壳(2)为导磁铁壳。
5.一种磁聚焦系统，其特征在于，包括：
控制电路和权利要求1-4任一项所述的磁场线圈装置，所述控制电路用于控制所述磁场线圈装置中磁场线圈(1)的电流大小。
6.一种磁聚焦系统的配置方法，其特征在于，应用于权利要求5所述的磁聚焦系统，所述方法包括：
通过调节所述磁聚焦系统中漏磁缝隙(3)的形状、尺寸、数量、位置，和/或磁场线圈(1)的电流，调节所述磁聚焦系统空间磁场。
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