[发明专利]一种纳织构原子层沉积二硫化钼软涂层刀具及其制备方法在审
申请号: | 201811331573.7 | 申请日: | 2018-11-09 |
公开(公告)号: | CN109161870A | 公开(公告)日: | 2019-01-08 |
发明(设计)人: | 吴泽;黄鹏;刘磊;邢佑强 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/455;C23C16/02 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 曾教伟 |
地址: | 210000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 织构 刀具 二硫化钼软涂层 原子层沉积 基体材料 弱化学键 软涂层 制备 干式切削加工 金属切削工具 协同 高能束加工 强韧性材料 表面纳米 刀具基体 工艺制备 金属切削 使用寿命 陶瓷材料 有效强化 硬脆性 应用 制造 | ||
本发明属于金属切削工具制造技术领域,涉及一种纳织构原子层沉积二硫化钼软涂层刀具及其制备方法。该刀具由基体材料、表面纳米级织构、二硫化钼软涂层构成,刀具基体材料为硬脆性陶瓷材料,软涂层与基体材料之间具备织构和弱化学键的协同增强结合机制。该纳织构原子层沉积二硫化钼软涂层刀具可通过高能束加工织构、原子层沉积涂层的工艺制备而成。该刀具可广泛应用于强韧性材料的干式切削加工,织构和弱化学键的协同增强结合机制可有效强化软涂层与基体的结合强度,显著改善金属切削工况并提高刀具的润滑使用寿命。
技术领域
本发明涉及一种纳织构原子层沉积二硫化钼软涂层刀具及其制备方法,属于金属切削刀具制造技术领域。
背景技术
机械制造业为整个国民经济提供技术装备,是国民经济和社会发展以及国防建设的物质基础,其发展水平是国家综合实力的重要标志。切削加工技术是机械制造业中应用最广泛的基础技术,而切削刀具技术的进步则是切削加工技术快速发展的关键。近年来,为满足干切削、高速切削等对切削刀具提出的新的要求,金属切削工具行业在不断尝试开发新型耐磨刀具材料、刀具涂层、辅助微量润滑工艺以及开展刀具几何结构的优化设计,这些方法均在一定程度上解决了限制切削技术发展的瓶颈问题。在这些方法中,其中以涂层的适用性较广泛,但涂层与基体材料之间的结合问题成为了制约其性能发挥的一大因素,尤其是软涂层刀具的涂层承载力低下仍然是当前亟待解决的一大问题。为此,开发,一种新型软涂层刀具及其制备工艺,从机理上解决涂层与基体结合强度低下的弊病,对促进软涂层刀具应用范围的扩大以及高速切削加工技术的进步具有重要意义。
中国专利“专利号:ZL200610068975”报道了自润滑复合软涂层刀具及其制备方法,该刀具为采用中频磁控+多弧法镀膜方法制备的MoS2/Zr/Ti复合涂层刀具,该刀具切削时能在表面形成具有润滑作用的连续固态润滑层,从而实现刀具的自润滑功能。中国专利“申请号:201711013253”报道了基于电射流沉积的多层软涂层纳织构刀具及其制备方法,该发明利用飞秒激光在刀具表面加工出纳米级织构,然后采用电射流方法在纳米级织构表面依次沉积MoS2和WS2涂层,形成具有多层结构的软涂层,该软涂层刀具干切削时,可减少摩擦并提高刀具寿命。
发明内容
发明目的:本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种纳织构原子层沉积二硫化钼软涂层刀具及其制备方法,从机理上提高软涂层与刀具基体材料之间的结合强度。
技术方案:本发明的一种纳织构原子层沉积二硫化钼软涂层刀具由基体材料、表面纳米级织构、二硫化钼软涂层构成,刀具基体材料为硬脆性陶瓷材料,软涂层与基体材料之间具备织构和弱化学键的协同增强结合机制。
本发明的一种纳织构原子层沉积二硫化钼软涂层刀具的制备方法如下:将陶瓷刀具基体材料表面用高能束的方法加工出纳米级别的织构;将加工了织构的刀片浸泡在有机溶剂中清洗,真空干燥;选择合适的钼源和硫源材料,通过原子层沉积的自限制化学反应在加工有纳织构的刀具材料表面沉积生成二硫化钼软涂层。
有益效果:本发明通过高能束加工纳织构、原子层沉积润滑层的方法制备了陶瓷材料基体的纳织构原子层沉积二硫化钨软涂层刀具。相对于现有的无涂层普通刀具,该刀具的软涂层成分具有优良的自润滑性能,可改善刀具切削的恶劣摩擦工况。相对于现有软涂层刀具,该刀具的纳米级织构与原子层沉积带来的界面弱化学键连接的协同作用,可从根本上改善涂层与基体材料的结合强度。本发明的一种纳织构原子层沉积二硫化钼软涂层刀具可广泛应用于高速干切削加工,涂层润滑使用寿命持久。
具体实施方式
下面通过具体实施例对本发明作进一步详述,以下实施例只是描述性的,不是限定性的,不能以此限定本发明的保护范围。
实施例1:
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的