[发明专利]数据存储介质及其制备方法和应用方法

说明书

本发明提供的一种数据存储介质，包括石英衬底及设置于所述石英衬底上的若干数据行，每一所述数据行包括等间距排设的第一数据源位点、第二数据源位点或两者的结合，所述第一数据源位点为开设于所述石英衬底上的凹槽，所述第二数据源位点相对于所述第一数据源位点呈凸起。本发明采用自身结构稳定性高的石英材料作为衬底，使得数据存储介质能够抗磨损，使用寿命极长，能够满足古代字画、历史文献等珍稀文物藏品的数据存储。尤其是高纯石英的应用下，结构更为稳定，其存储效果更好更长久。同时利用四氟化碳产生等离子体进行刻蚀，刻蚀速率快，制备效率高。借以位点的优化设计以及校验位设置，确保了数据存储和读取的正确性。

技术领域

本发明涉及数据存储技术领域，特别是指一种数据存储介质及该数据存储介质的制备方法和该数据存储介质的应用方法。

背景技术

本部分旨在为权利要求书中陈述的本发明的实施方式提供背景或上下文。此处的描述不因为包括在本部分中就承认是现有技术。

目前市场上的存储介质均采用光盘、硬盘、磁带进行数据的存储。例如光盘，通常采用聚碳酸酯制作，通过无数的能反射光线的凹凸坑标记无数的0和1记录和存储数据，大量的0和1组合可以表现出各种各样的音像文件、图像文件等。但现有光盘，甚至硬盘、磁带等数据存储介质基于自身材料性能和结构的限制以及长时间使用或存储不当极易磨损乃至损坏，造成数据丢失，因此记载于现有存储介质上的文件普遍保存时间不长，难以用于存储珍稀文物资料，限制其应用。

发明内容

鉴于以上内容，有必要提供一种改进的数据存储介质，具有结构稳定，不易损坏，使用寿命长的特点。本发明的另一目的提供一种数据存储介质的制备方法。本发明的又一目的在于提供一种数据存储介质的应用方法。

本发明提供的技术方案为：一种数据存储介质，包括石英衬底及设置于所述石英衬底上的若干数据行，每一所述数据行包括等间距排设的第一数据源位点、第二数据源位点或两者的结合，所述第一数据源位点为开设于所述石英衬底上的凹槽，所述第二数据源位点相对于所述第一数据源位点呈凸起。

进一步地，所述石英衬底的纯度为90％以上。

进一步地，所述石英衬底的纯度为99％以上。

进一步地，所述石英衬底的纯度为99.9％-99.99％

进一步地，所述石英衬底为扇形、圆形、多边形或它们的变形体。

进一步地，所述石英衬底为双面刻蚀。

进一步地，所述石英衬底的厚度大于所述凹槽深度的双倍。

进一步地，每一所述数据行中的所有位点呈环向阵列或线性阵列分布，且多个所述数据行等间距设置。

进一步地，所述凹槽横截面为圆形，其直径为220-245μm，所述凹槽的深度为15-25μm，每一所述数据行中所述凹槽邻近边缘的最小间距为90-110μm。

本发明还提供所述的数据存储介质的制备方法，包括以下步骤：

准备所述石英衬底；

采用四氟化碳气体被电离产生的F^-等离子体对所述石英衬底进行刻蚀，得到若干数据行上预设的所述第一数据源位点，从而形成数据存储介质。

其中，所述数据存储介质包括石英衬底及设置于所述石英衬底上的若干数据行，每一所述数据行包括等间距排设的第一数据源位点、第二数据源位点或两者的结合，所述第一数据源位点为开设于所述石英衬底上的凹槽，所述第二数据源位点相对于所述第一数据源位点呈凸起。

进一步地，所述四氟化碳混合有氧气，两者的体积比为3:1-1:1，所述刻蚀速度为150-200nm/s。