[发明专利]一种曝光装置

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，包括掩膜台(1)，位于掩膜台(1)上的掩膜版(2)，所述掩膜版(2)上绘制有若干个曝光图形(3)，所述掩膜版(2)上方于曝光图形(3)的对应位置分别设置有曝光光源(4)，所述掩膜台(1)下方设置有固定载台(5)和位于固定载台(5)上的基材(6)，所述基材(6)的尺寸与掩膜版(2)的尺寸相当，所述掩膜版(2)与基材(6)之间设置有若干个投影物镜(7)，所述投影物镜(7)与掩膜版(2)上的曝光图形(3)位置相对应。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述掩膜版(2)上的图形分别与曝光光源(4)、投影物镜(7)一一对应。

3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光图形(3)的个数为2-3个。

4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光图形(3)为方形，尺寸为0.4mm×0.4mm。

5.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述基材(6)为硅片。