[发明专利]一种负极极片及其制备方法和锂离子电池有效

专利信息
申请号: 201811339192.3 申请日: 2018-11-12
公开(公告)号: CN111180657B 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 何珍;梁超宇;刘卫平 申请(专利权)人: 惠州比亚迪电子有限公司
主分类号: H01M4/04 分类号: H01M4/04;H01M4/133;H01M4/134;H01M4/36;H01M4/38;H01M4/583;H01M10/0525;H01M4/02
代理公司: 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447 代理人: 董琳
地址: 516083 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 负极 及其 制备 方法 锂离子电池
【权利要求书】:

1.一种负极极片,其特征在于,包括集流体、硅-石墨烯涂层,所述硅-石墨烯涂层由硅层和石墨烯层组成,所述硅层与所述集流体直接接触,所述硅-石墨烯涂层涂覆在集流体的两面,所述硅-石墨烯涂层的孔隙率为27%-33%,所述硅-石墨烯涂层中硅的质量占比为83%-90%,所述硅-石墨烯涂层中石墨烯的质量占比为8%-12%,所述负极极片的厚度为30-60微米;所述石墨烯层由石墨烯层浆料制备得到,所述石墨烯层浆料的制备步骤包括:将石墨烯颗粒、导电剂按质量比为(97.5%-99.5%):(0.5%-2.5%)混匀后,分散到有机溶剂中获得所述石墨烯层浆料。

2.根据权利要求1所述的负极极片,其特征在于,所述负极极片的压实密度为1.0-1.65g/cm3

3.根据权利要求1所述的负极极片,其特征在于,所述硅层为纳米硅,所述纳米硅的粒径为100-400nm,所述负极极片压实前所述硅-石墨烯涂层中单层硅的厚度为10-20微米,单层石墨烯的厚度为1-5微米。

4.根据权利要求1所述的负极极片,其特征在于,所述集流体的材质为铜、镍和不锈钢中的一种,所述集流体的形状为筛网状和箔状中的一种。

5.根据权利要求1所述的负极极片,其特征在于,所述集流体为铜箔,所述铜箔的厚度为6-12微米。

6.一种负极极片的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

(1)硅层浆料的制备:将硅、纳米二氧化硅、导电剂、粘结剂按质量比为(85%-91%):(8%-10%):(0.5%-2.5%):(0.5%-2.5%)混匀后,分散到有机溶剂中获得硅层浆料;

(2)石墨烯层浆料的制备:将石墨烯颗粒、导电剂按质量比为(97.5%-99.5%):(0.5%-2.5%)混匀后,分散到有机溶剂中获得石墨烯层浆料;

(3)将集流体浸入步骤(1)所得的硅层浆料中取出并烘干,得到硅、纳米二氧化硅双面涂覆的集流体,再将此集流体浸入步骤(2)所得的石墨烯层浆料中,取出并烘干,得硅、纳米二氧化硅、石墨烯共同涂覆的集流体;

(4)将步骤(3)所得的集流体浸入氢氟酸中,取出烘干,得硅-石墨烯涂层涂覆的集流体;

(5)将步骤(4)所得集流体进行压实,得负极极片;

其中,负极极片中硅-石墨烯涂层的孔隙率为27%-33%,其中,硅-石墨烯涂层中硅的质量占比为83%-90%,石墨烯的质量占比为8%-12%。

7.根据权利要求6所述的负极极片的制备方法,其特征在于,所述负极极片的压实密度为1.0-1.65g/cm3,所述负极极片的厚度为30-60微米。

8.根据权利要求6所述的负极极片的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中硅为纳米硅,所述纳米硅的粒径为100-400nm,所述负极极片压实前硅-石墨烯涂层中单层硅的厚度为10-20微米,单层石墨烯的厚度为1-5微米。

9.根据权利要求6所述的负极极片的制备方法,其特征在于,所述导电剂为碳黑、碳纳米管、石墨烯和石墨类碳材料中的一种,所述粘结剂为含氟树脂、聚乙烯、聚乙烯醇中的一种。

10.根据权利要求6所述的负极极片的制备方法,其特征在于,所述有机溶剂中还包含表面活性剂。

11.根据权利要求6所述的负极极片的制备方法,其特征在于,所述集流体的材质为铜、镍和不锈钢中的一种,所述集流体的形状为筛网状和箔状中的一种。

12.根据权利要求11所述的负极极片的制备方法,其特征在于,所述集流体为铜箔,所述铜箔的厚度为6-12微米。

13.一种负极极片,其特征在于,所述负极极片由权利要求6-12任意一项所述的负极极片的制备方法制备得到。

14.一种锂离子电池,其特征在于,包括正极极片、隔膜、电解液和负极极片,所述负极极片为权利1-5任意一项所述的负极极片或权利要求13所述的负极极片。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠州比亚迪电子有限公司,未经惠州比亚迪电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811339192.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top