[发明专利]曝光方法、制造方法和基板处理方法在审
| 申请号： | 201811339478.1 | 申请日： | 2012-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN109324485A | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 青木保夫 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王涛;任默闻 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基板 基板保持具 曝光处理 曝光区域 运送装置 对基板 平坦度 步进 微动 载台 基板处理 曝光位置 曝光装置 驱动 曝光 制造 | ||
【权利要求书】：
1.一种曝光方法，使多片基板曝光：
于具有可个别保持2片基板的第1及第2保持区域的基板保持装置装载该2片基板，在该2片基板中的一基板的曝光开始至结束为止的期间，进行另一基板的至少一个处理区域的曝光。
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