[发明专利]一种面板版图设计中加速曝光模拟的方法

说明书

本发明提供一种面板版图设计中加速曝光模拟的方法，包括以下步骤：1）调用cell，计算各mask的重复曝光区和位于重复曝光区内的图形以及位于非重复曝光区内的图形；2）计算所有mask在重复曝光区内的图形经过曝光后的结果；3）合并mask位于非重复曝光区内的结果和重复曝光区内的结果。本发明解决自动曝光模拟过程中计算速度慢和结果文件大的两个问题，从而加快“设计/修改‑曝光模拟‑分析”的循环，提升效率。

技术领域

本发明涉及面板设计技术领域，特别是面板版图设计流程中的曝光模拟工具。

背景技术

在面板版图设计中，需要对版图进行曝光模拟以保障正确性。如果在曝光模拟结果中发现了错误，那么需要做出相应的修改，比如修改掩模板内容，或者修改掩模板的放置位置等。

现有的自动进行曝光模拟的方法可以节省人力、加快速度、提高准确度，然而如果曝光区域涉及到像素区，那么存在以下问题：(1)曝光模拟速度可能会很慢；(2)生成的文件可能会很大。这些问题给分析结果带来了不便，从而限制了工程师进行快速设计和修改。

发明内容

为了解决现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种面板版图设计中加速曝光模拟的方法，解决自动曝光模拟过程中计算速度慢和结果文件大的两个问题，从而加快“设计/修改-曝光模拟-分析”的循环，提升效率。

为实现上述目的，本发明提供的面板版图设计中加速曝光模拟的方法，包括以下步骤：

1)调用cell，计算各mask的重复曝光区和位于重复曝光区内的图形以及位于非重复曝光区内的图形；

2)计算所有mask在重复曝光区内的图形经过曝光后的结果；

3)合并mask位于非重复曝光区内的结果和重复曝光区内的结果。

进一步地，步骤1)所述cell，为版图中实现具体功能的单元，包含layer的图形或包含layer的图形及对其它cell的引用。

更进一步地，在进行所述步骤1)至步骤3)过程中，保持和利用了cell间的调用关系，并且将cell间的调用关系保留在结果文件中。

为实现上述目的，本发明还提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机指令，所述计算机指令运行时执行上述的面板版图设计中加速曝光模拟的方法的步骤。

本发明在进行曝光模拟过程中保持和利用了cell间的调用关系，提升了计算速度、缩小了结果文件，使得工程师能够更快地迭代设计。

本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。

附图说明

附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，并与本发明的实施例一起，用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：

图1为根据本发明的面板版图设计中加速曝光模拟的方法的流程图；

图2为根据本发明的实施方式的cell的示意图；

图3为根据本发明的实施方式的示例版图示意图；

图4(a)为根据现有技术计算得到的各mask的重复曝光区、非重复曝光区图形和重复曝光区内的图形示意图；

图4(b)为根据本发明的实施方式的各mask的重复曝光区、非重复曝光区图形和重复曝光区内的图形示意图；

图5(a)为根据现有技术的所有mask重复曝光区内图形的曝光结果示意图；

图5(b)为根据本发明的实施方式的所有mask重复曝光区内图形的曝光结果示意图；