[发明专利]一体式石英双振梁加速度计及制备方法在审
申请号: | 201811339689.5 | 申请日: | 2018-11-12 |
公开(公告)号: | CN109239400A | 公开(公告)日: | 2019-01-18 |
发明(设计)人: | 张照云;刘显学;唐彬;李枚;彭勃;许蔚;熊壮;苏伟 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院电子工程研究所 |
主分类号: | G01P15/097 | 分类号: | G01P15/097 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 621000*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 直梁 加速度计 一端连接 挠性梁 质量块 装配区 石英 金属电极 连接梁 制备 一体成型的 并列设置 极性相反 一体成型 真空封装 分体式 易加工 装配 | ||
1.一种一体式石英双振梁加速度计,其特征在于,该一体式石英双振梁加速度计包括:一体成型的装配区、挠性梁、振梁、质量块及金属电极,所述质量块通过所述挠性梁及所述振梁连接于所述装配区;
其中,所述振梁包括第一直梁及第二直梁,所述第一直梁及所述第二直梁并列设置,所述第一直梁及所述第二直梁的一端连接于所述装配区,另一端连接于所述质量块,所述金属电极设置所述第一直梁及所述第二直梁上,所述第一直梁及所述第二直梁上的金属电极的极性相反;
其中,所述挠性梁包括两个连接梁,两个连接梁位于所述振梁的两侧,所述挠性梁的一端连接于所述装配区,另一端连接于所述质量块。
2.根据权利要求1所述的一体式石英双振梁加速度计,其特征在于,所述装配区及所述质量块为凹字形,所述凹字形的缺口为凹陷区,所述质量块位于所述装配区的凹陷区内,所述质量块的凹陷区朝向所述装配区的凹陷区。
3.根据权利要求2所述的一体式石英双振梁加速度计,其特征在于,所述装配区与所述质量块中线处于一条直线上,使所述一体式石英双振梁加速度计呈轴对称结构。
4.根据权利要求2所述的一体式石英双振梁加速度计,其特征在于,所述振梁的一端连接于所述质量块的凹陷区,另一端连接于所述装配区,所述第一直梁与所述第二直梁以质量块的中线为轴线对称设置。
5.根据权利要求2所述的一体式石英双振梁加速度计,其特征在于,所述挠性梁的一端连接于所述质量块为凹字形的突出部,另一端连接于所述装配区,两个所述连接梁以所述装配区的中线为轴线对称设置在所述振梁的两侧。
6.根据权利要求1所述的一体式石英双振梁加速度计,其特征在于,所述挠性梁及振梁的厚度相同,所述挠性梁及振梁的厚度小于所述装配区及所述质量块的厚度。
7.根据权利要求6所述的一体式石英双振梁加速度计,其特征在于,所述挠性梁的一端连接于所述装配区的下表面,另一端连接于所述质量块的下表面,所述振梁的一端连接于所述装配区的上表面,另一端连接于所述质量块的上表面。
8.根据权利要求1所述的一体式石英双振梁加速度计,其特征在于,所述金属电极包括第一电极、第二电极及引线;
其中,所述第一电极包括第一左电极、第一中电极、第一右电极;所述第二电极包括第二左电极、第二中电极、第二右电极;所述引线包括第一引线及第二引线;
其中,所述第一电极设置在所述第一直梁上,所述第二电极设置在所述第二直梁上;
其中,所述第一左电极位于所述第一中电极左侧,所述第一右电极位于所述第一中电极右侧;所述第二左电极位于所述第二中电极左侧,所述第二右电极位于所述第二中电极右侧;
其中,所述第一左电极连接于所述第一右电极,而后连接于所述第二中电极,所述第二左电极连接于所述第二右电极,而后连接于所述第一中电极;
其中,所述第一引线连接于所述第一左电极,所述第二引线连接于所述第一中电极及所述第二右电极。
9.一种权利要求1-8中任意一项所述一体式石英双振梁加速度计的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
1)切割获取石英基片;
2)在所述石英基片的上下表面溅射掩模;
3)通过标定掩模去除区域,贯穿腐蚀去除所述振梁、所述质量块及所述挠性梁侧壁的晶棱;
4)通过标定掩模去除区域,部分腐蚀,削减所述振梁及所述挠性梁的厚度;
5)在所述振梁上铺设金属电极,获取一体式石英双振梁加速度计。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
1)原始材料采用双抛Z切石英单晶,获取厚度为400μm-600μm厚度的石英基片;
2)在所述石英基片的表面依次溅射铬和金,在所述石英基片的上下表面形成石英腐蚀金属掩膜;
3)通过双面涂胶及曝光在所述铬金掩模上显露第一掩模去除区域;
4)去除第一掩模去除区域上的铬金掩模,并去除光刻胶;
5)通过腐蚀液在第一掩模去除区域上双面腐蚀贯穿所述石英基片,去除所述振梁、质量块及所述挠性梁侧壁的晶棱;
6)通过双面喷胶及曝光在所述铬金属掩模上显露第二掩模去除区域;
7)去除第二掩模去除区域上的铬金掩模,并去除光刻胶;
8)通过腐蚀液在第二掩模去除区域上单面部分腐蚀所述石英基片,使得所述振梁及所述挠性梁的厚度为所需要的厚度;
9)去除石英基片上的石英腐蚀金属掩膜,在所述振梁上溅射金属电极。
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