[发明专利]透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法、装置及系统

权利要求书

1.一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统，其特征在于，包括金属箱体、电磁波信号采集装置及电磁屏蔽效能计算装置；

处于研制阶段的待测光学设备的电子系统放置于所述金属箱体内，所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，所述光学玻璃上设置透光屏蔽薄膜；所述透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃；

所述电磁波信号采集装置用于采集从所述金属箱体向外出射的电磁波信号，并将采集的电磁波信号发送至所述电磁屏蔽效能计算装置中；

所述电磁屏蔽效能计算装置用于根据接收到的第一电磁波信号强度值和第二电磁波信号强度值计算所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值，所述第一电磁波强度值为设置所述透光屏蔽薄膜的所述金属箱体出射的电磁波信号强度值，所述第二电磁波强度值为没有设置所述透光屏蔽薄膜的所述金属箱体出射的电磁波信号强度值。

2.根据权利要求1所述的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统，其特征在于，所述电磁波信号采集装置包括接收天线和电磁波信号测量接收机；

所述接收天线用于接收从所述金属箱体向外出射的电磁波信号；

所述电磁波信号测量接收机用于采集所述接收天线接收到的电磁波信号。

3.根据权利要求1所述的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统，其特征在于，所述电磁屏蔽效能计算装置用于根据下述公式计算所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值：

SE＝E₀/E₁；

式中，SE为所述屏蔽效能值，E₀为设置有所述透光屏蔽薄膜的金属箱体内预设位置处的电场强度，E₁为不加所述待测透光屏蔽薄膜的金属箱体内所述预设位置处的电场强度。

4.根据权利要求1-3任意一项所述的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统，其特征在于，所述金属箱体还包括位于箱体底部的过线孔，以使所述电子系统通过所述过线孔与电源相连；所述过线孔的尺寸与所述电子系统的电源线尺寸相同。

5.根据权利要求4所述的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统，其特征在于，所述电磁屏蔽效能计算装置还包括电场强度存储器，用于存储所述电磁波信号采集装置发送的电场强度信息。

6.一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法，其特征在于，包括：

获取设置在金属箱体内的待测光学设备的电子系统向外辐射电磁波的第一强度值；

获取设置在设置有透光屏蔽薄膜的金属箱体的所述电子系统向外辐射电磁波的第二强度值；

计算所述第一强度值和所述第二强度值的比值，作为所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值；

其中，所述待测光学设备处于研制阶段，所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，所述透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃。

7.根据权利要求6所述的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法，其特征在于，在所述计算所述第一强度值和所述第二强度值的比值，作为所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值之外，还包括：

判断所述屏蔽效能值是否在所述待测光学设备的标准电磁波辐射范围内；

若否，则发送更换透光屏蔽薄膜类型的指令，并进行不符合电磁波辐射标准的提示。

8.一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试装置，其特征在于，包括：

原始电磁波强度值获取模块，用于获取设置在金属箱体内的处于研制阶段的待测光学设备的电子系统向外辐射电磁波的第一强度值，所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构；

电磁屏蔽后的电磁波强度值获取模块，用于获取设置在设置有透光屏蔽薄膜的金属箱体的所述电子系统向外辐射电磁波的第二强度值，所述透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃；

屏蔽效能计算模块，用于计算所述第一强度值和所述第二强度值的比值，作为所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。