[发明专利]基于光化学辅助选择性刻蚀的砷化镓表面纳米加工方法

权利要求书

1.一种基于光化学辅助选择性刻蚀的砷化镓表面纳米加工方法，其特征在于：包括以下步骤：

S1、采用机械刻划或压痕设备在洁净的砷化镓表面进行划痕或压痕加工；

S2、采用混合刻蚀剂对砷化镓表面进行紫外光化学辅助刻蚀，刻蚀完成后对砷化镓表面进行清洗，获得砷化镓表面纳米结构。

2.根据权利要求1所述的基于光化学辅助选择性刻蚀的砷化镓表面纳米加工方法，其特征在于：所述步骤S1中，利用扫描探针显微镜的金刚石针尖进行划痕加工，或采用纳米压痕仪Berkovich压头进行压痕加工。

3.根据权利要求2所述的基于光化学辅助选择性刻蚀的砷化镓表面纳米加工方法，其特征在于：所述步骤S1中，用于划痕制作的金刚石针尖的尖端曲率半径为20nm-5μm，优选为100nm-2μm；用于压痕制作的为Berkovich金刚石压头。

4.根据权利要求1所述的基于光化学辅助选择性刻蚀的砷化镓表面纳米加工方法，其特征在于：所述光化学辅助刻蚀装置的低压汞灯发射波长为184.9nm和253.7nm的紫外线。

5.根据权利要求1所述的基于光化学辅助选择性刻蚀的砷化镓表面纳米加工方法，其特征在于：所述步骤S2中，所述混合刻蚀剂为硫酸和过氧化氢的混合刻蚀剂，硫酸质量浓度为98％、过氧化氢质量浓度为30％，体积比为H₂SO₄：H₂O₂：H₂O＝1：0.5：100，刻蚀时间为30s-20min。

6.根据权利要求1-5任一所述的基于光化学辅助选择性刻蚀的砷化镓表面纳米加工方法，其特征在于：所述步骤S2中，依次采用丙酮和无水乙醇对砷化镓超声清洗，超声时间均为3min，并用连续的去离子水冲洗以去除表面的吸附物，冲洗时间为10min，再进行干燥处理。