[发明专利]发光装置有效
申请号: | 201811344766.6 | 申请日: | 2018-11-13 |
公开(公告)号: | CN110838556B | 公开(公告)日: | 2023-01-17 |
发明(设计)人: | 黄立民;魏丽真 | 申请(专利权)人: | 台州观宇科技有限公司 |
主分类号: | H10K50/86 | 分类号: | H10K50/86;H10K59/38 |
代理公司: | 北京威禾知识产权代理有限公司 11838 | 代理人: | 沈超 |
地址: | 318015 浙江省台州市集聚区三*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 装置 | ||
1.一种发光装置,包含:
一视窗,设于一发光像素的一发光区域上且与该发光区域垂直排列,其中该发光像素对一入射环境光线的一光反射效能是藉由使该视窗呈现具有至少二区域而设置,其中该至少二区域中的一区域对该入射环境光线的透光率小于该至少二区域中的一另一区域,且该另一区域为空白区域,使该发光像素的一部份由该另一区域露出,该发光像素包含多个子像素,彼此以一空间隔开,且该空间小于一人类眼睛之解析度,该些子像素的面积彼此不同,且与该一区域垂直排列的子像素的总有效发光面积比与该另一区域垂直排列的子像素的总有效发光面积高出两倍、四倍或六倍。
2.如权利要求1所述的发光装置,其中该视窗包含一光致变色材料。
3.如权利要求1所述的发光装置,其中该视窗为内嵌于该发光装置中的一图案化薄膜。
4.如权利要求1所述的发光装置,其中该视窗与该发光像素接触。
5.如权利要求1所述的发光装置,其中该视窗位于一介电质与该发光像素间。
6.如权利要求1所述的发光装置,还包含一共用电极,其位于该些子像素下方。
7.如权利要求1所述的发光装置,其中每一子像素与位于其下方的一电极区段接触。
8.如权利要求7所述的发光装置,其中每一子像素的该电极区段分别连接至一导电栓。
9.如权利要求1所述的发光装置,其中该视窗位于该发光像素上方且被一材料层围绕,该材料层包含氧化物或聚合物材料。
10.一种发光装置,包含:
一发光阵列,包含多个发光像素,每一发光画素包括多个子像素,彼此以一空间隔开,且该空间小于一人类眼睛之分辨率;
一光学视窗,位于该些发光像素至少一者上方,其中该光学视窗包含至少一第一区块及一第二区块,其中该第一区块与该发光像素之一第一区域垂直排列,且该第二区块与该发光像素之一第二区域垂直排列,其中该第一区块与该第二区块间对一入射环境光线之一透光率不同,其中该第一区域包括一第一子像素,该第二区域包括一第二子像素,该第一区块实质上与该第一子像素垂直排列,该第二区块实质上与该第二子像素垂直排列,且该第一子像素的总有效发光面积比该第二子像素的总有效发光面积高出两倍、四倍或六倍。
11.如权利要求10所述的发光装置,其中该光学视窗包含一光致变色材料。
12.如权利要求10所述的发光装置,其中该第一区块进一步延伸以使其总面积大于该第一区域之一总面积。
13.如权利要求10所述的发光装置,其中该光学视窗由一介电层所围绕。
14.如权利要求10所述的发光装置,还包含一电极,位于该光学视窗与该发光像素间。
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