[发明专利]一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法

权利要求书

1.一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法，其特征在于，具体按照以下步骤实施：

步骤1，制备微弧氧化电解液；

步骤2，对所述步骤1的微弧氧化电解液进行超生振荡以及高速搅拌；

步骤3，将预处理后的零件浸入所述步骤2进行超生振荡以及高速搅拌后微弧氧化电解液中，进行微弧氧化处理，在零件的表面形成陶瓷膜；

步骤4，对所述步骤3表面形成陶瓷膜的零件进行清洗干燥；

步骤5，将清洗干燥后的零件进行封闭处理，完成在零件表面形成微弧氧化陶瓷膜。

2.根据权利要求1所述的一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法，其特征在于，所述步骤1制备微弧氧化电解液的具体实施方法为：

将硅酸盐、磷酸盐、氢氧化物和氧化铋混合，并通过去离子水溶解，再加入添加剂进行搅拌，制得微弧氧化电解液，所述添加剂中包含甘油和钨酸盐。

3.根据权利要求2所述的一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法，其特征在于，所述步骤2中的超生振荡5-50min。

4.根据权利要求3所述的一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法，其特征在于，所述步骤2中高速搅拌的速度为5500-20000r/min。

5.根据权利要求1-4任一项所述的一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法，其特征在于，所述步骤3中对零件进行预处理的方法为：将零件进行打磨，待表面粗糙度为10-40um后，采用浓度为100-200g/L的硫酸溶液对零件进行浸泡1-3min，完成零件的预处理。

6.根据权利要求5所述的一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法，其特征在于，所述步骤3中微弧氧化处理的工艺参数为：在恒电流模式下，在温度为16-22℃下进行微弧氧化处理20-70min，其中，电流密度：0.8A/dm²-1.2A/dm²；频率：30-1000HZ；占空比：正向50％，负向50％；阴极：不锈钢板；

在整个微弧氧化的过程中，采用聚四氟循环冷却微弧氧化电解液。

7.根据权利要求6所述的一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法，其特征在于，所述步骤4对零件进行清洗和干燥的具体方法为：

使用流动的水清洗零件表面10-30min，之后采用压缩空气吹干零件表面。

8.根据权利要求7所述的一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法，其特征在于，所述步骤5对零件进行封闭处理的具体方法为：将表面形成陶瓷膜的零件置于耐压容器中，密封抽真空之后将封闭剂注入耐压容器中，之后解除真空，利用大气压将封闭剂压入微弧氧化陶瓷膜的微孔内，完成封闭。

9.根据权利要求8所述的一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法，其特征在于，所述封闭剂由有机硅原液与酒精按照2-8∶1的质量比混合而成。

10.根据权利要求9所述的一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法，其特征在于，所述步骤5抽真空的真空度为10^-4-10^-2MPa。