[发明专利]一种3D高密度互联的PoP塑封器件制备方法在审

专利信息
申请号: 201811347999.1 申请日: 2018-11-13
公开(公告)号: CN109559996A 公开(公告)日: 2019-04-02
发明(设计)人: 杨婷;李宗亚;敖国军 申请(专利权)人: 无锡中微高科电子有限公司
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L21/56;H01L21/768
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 殷红梅
地址: 214035 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 塑封器件 铜柱 互联 贴装 塑封 锡膏 制备 集成电路封装 一次性完成 垂直模块 工艺难度 基板背面 基板正面 设备投入 完成基板 对基板 露出端 塑封体 堆叠 减薄 通孔 植球 背面
【说明书】:

发明属于集成电路封装技术领域,涉及一种3D高密度互联的PoP塑封器件制备方法,包括在常规MCM基板正面进行器件贴装,并完成塑封;在基板背面通过刷锡膏的方式,一次性完成SMT器件贴装和铜柱贴装,并完成基板背面的二次塑封;对基板背面塑封体减薄,露出铜柱,并在铜柱露出端完成植球;本发明的3D高密度互联的PoP塑封器件是在基于PoP塑封器件形式上,使用常规刷锡膏、植铜柱工艺代替垂直模块通孔工艺,可降低工艺难度和成本,无需前期设备投入,在实现器件间的3D堆叠的同时,进一步提高3D方向互联密度。

技术领域

本发明涉及一种POP塑封器件制造方法,尤其是一种3D高密度互联的PoP塑封器件制备方法,属于集成电路封装技术领域。

背景技术

垂直互联是高密度集成封装的发展趋势,在芯片级别通过硅通孔工艺完成垂直互联,在基板级别通过内置元器件的制备工艺完成垂直互联,相应的模块级别的垂直互联有SiP和PoP。

通过TSV实现的芯片级3D互联,不仅芯片工艺较为复杂,对贴片设备的贴片精度和贴装压力有很高的要求,才能满足多层数高密度的芯片堆叠互联,前期投入成本较高。

基板级别的2.5D制备工艺,通过基板中间内置芯片或阻容元件提高三维互联密度,基板内置器件的互联可靠性风险管控,需要基板厂和封装厂共同承担;且基板级垂直互联往往空间受限较多,对内置器件的尺寸和引脚个数有严格要求。

模块级别的垂直互联较为灵活,传统的PoP多为基板单面器件组装,如需在基板双面组装器件,则不仅对器件厚度有严格的控制,还需对基板进行挖腔处理,塑封模具定制等要求,才能完成植球面的器件贴装和包封,工序复杂,成本较高;同时现有的模块内垂直通孔设计,工艺复杂,封装厂需添加前期设备才能完成。

发明内容

本发明的目的是针对目前模块级别的垂直互连的问题,本发明提供种3D高密度互联的PoP塑封器件制备方法,在传统PoP塑封形式上,使用常规MCM基板,使用常规刷锡膏、植铜柱工艺代替垂直模块通孔工艺,可降低工艺难度和成本,无需前期设备投入,在实现器件间的3D堆叠的同时,进一步提高3D方向互联密度。

为实现以上技术目的,本发明的技术方案是:一种3D高密度互联的PoP塑封器件制备方法,其特征是,包括如下步骤:

步骤一. 选取一基板,对于单侧互联的PoP封装形式,在基板正面进行倒装芯片贴装、SMT器件贴装及其他芯片贴片键合;

步骤二. 对基板正面通过塑封料包封,完成正面包封;

步骤三. 在基板背面进行倒装芯片贴装、SMT器件贴装及铜柱植柱;

步骤四. 对基板背面通过塑封料包封,完成背面包封;

步骤五. 对于单侧互联的PoP封装形式,对基板背面的塑封料进行机械研磨,露出单侧铜柱的顶端;

步骤六. 在露出的铜柱端完成植球。

进一步地,所述步骤一中,对于双侧互联的POP封装形式,则在基板正面进行其他芯片贴片键合及铜柱植柱。

进一步地,所述步骤五中,对于双侧互联的POP封装形式,则对基板双面的塑封料进行机械研磨,露出双侧铜柱的顶端。

进一步地,所述步骤七中,对于双侧互联的POP封装形式,在其中一侧露出的铜柱端贴保护膜,防止铜被氧化,另一侧露出的铜柱端完成植球。

进一步地,在铜柱端完成植球后,可将两个或多个单侧/双侧互联的PoP封装器件的足球端焊接在一起,完成器件间的堆叠。

进一步地,所述基板包括MCM基板。

进一步地,在植柱铜柱的过程中,先在基板上低温涂覆锡膏,利用刷锡膏后回流工艺,再回流焊接铜柱。

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