[发明专利]一种3D高密度互联的PoP塑封器件制备方法在审
申请号: | 201811347999.1 | 申请日: | 2018-11-13 |
公开(公告)号: | CN109559996A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 杨婷;李宗亚;敖国军 | 申请(专利权)人: | 无锡中微高科电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L21/56;H01L21/768 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 殷红梅 |
地址: | 214035 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 塑封器件 铜柱 互联 贴装 塑封 锡膏 制备 集成电路封装 一次性完成 垂直模块 工艺难度 基板背面 基板正面 设备投入 完成基板 对基板 露出端 塑封体 堆叠 减薄 通孔 植球 背面 | ||
本发明属于集成电路封装技术领域,涉及一种3D高密度互联的PoP塑封器件制备方法,包括在常规MCM基板正面进行器件贴装,并完成塑封;在基板背面通过刷锡膏的方式,一次性完成SMT器件贴装和铜柱贴装,并完成基板背面的二次塑封;对基板背面塑封体减薄,露出铜柱,并在铜柱露出端完成植球;本发明的3D高密度互联的PoP塑封器件是在基于PoP塑封器件形式上,使用常规刷锡膏、植铜柱工艺代替垂直模块通孔工艺,可降低工艺难度和成本,无需前期设备投入,在实现器件间的3D堆叠的同时,进一步提高3D方向互联密度。
技术领域
本发明涉及一种POP塑封器件制造方法,尤其是一种3D高密度互联的PoP塑封器件制备方法,属于集成电路封装技术领域。
背景技术
垂直互联是高密度集成封装的发展趋势,在芯片级别通过硅通孔工艺完成垂直互联,在基板级别通过内置元器件的制备工艺完成垂直互联,相应的模块级别的垂直互联有SiP和PoP。
通过TSV实现的芯片级3D互联,不仅芯片工艺较为复杂,对贴片设备的贴片精度和贴装压力有很高的要求,才能满足多层数高密度的芯片堆叠互联,前期投入成本较高。
基板级别的2.5D制备工艺,通过基板中间内置芯片或阻容元件提高三维互联密度,基板内置器件的互联可靠性风险管控,需要基板厂和封装厂共同承担;且基板级垂直互联往往空间受限较多,对内置器件的尺寸和引脚个数有严格要求。
模块级别的垂直互联较为灵活,传统的PoP多为基板单面器件组装,如需在基板双面组装器件,则不仅对器件厚度有严格的控制,还需对基板进行挖腔处理,塑封模具定制等要求,才能完成植球面的器件贴装和包封,工序复杂,成本较高;同时现有的模块内垂直通孔设计,工艺复杂,封装厂需添加前期设备才能完成。
发明内容
本发明的目的是针对目前模块级别的垂直互连的问题,本发明提供种3D高密度互联的PoP塑封器件制备方法,在传统PoP塑封形式上,使用常规MCM基板,使用常规刷锡膏、植铜柱工艺代替垂直模块通孔工艺,可降低工艺难度和成本,无需前期设备投入,在实现器件间的3D堆叠的同时,进一步提高3D方向互联密度。
为实现以上技术目的,本发明的技术方案是:一种3D高密度互联的PoP塑封器件制备方法,其特征是,包括如下步骤:
步骤一. 选取一基板,对于单侧互联的PoP封装形式,在基板正面进行倒装芯片贴装、SMT器件贴装及其他芯片贴片键合;
步骤二. 对基板正面通过塑封料包封,完成正面包封;
步骤三. 在基板背面进行倒装芯片贴装、SMT器件贴装及铜柱植柱;
步骤四. 对基板背面通过塑封料包封,完成背面包封;
步骤五. 对于单侧互联的PoP封装形式,对基板背面的塑封料进行机械研磨,露出单侧铜柱的顶端;
步骤六. 在露出的铜柱端完成植球。
进一步地,所述步骤一中,对于双侧互联的POP封装形式,则在基板正面进行其他芯片贴片键合及铜柱植柱。
进一步地,所述步骤五中,对于双侧互联的POP封装形式,则对基板双面的塑封料进行机械研磨,露出双侧铜柱的顶端。
进一步地,所述步骤七中,对于双侧互联的POP封装形式,在其中一侧露出的铜柱端贴保护膜,防止铜被氧化,另一侧露出的铜柱端完成植球。
进一步地,在铜柱端完成植球后,可将两个或多个单侧/双侧互联的PoP封装器件的足球端焊接在一起,完成器件间的堆叠。
进一步地,所述基板包括MCM基板。
进一步地,在植柱铜柱的过程中,先在基板上低温涂覆锡膏,利用刷锡膏后回流工艺,再回流焊接铜柱。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造