[发明专利]离子镀Ni-P纳米叠层膜及其制备方法

权利要求书

1.一种离子镀Ni-P纳米叠层膜，其特征在于，它是以黑色金属为基底材料，利用离子镀膜技术沉积获得的呈层状结构的纳米叠层Ni-P膜，所述纳米叠层Ni-P膜的总厚度在2～80μm范围内可调，所述纳米叠层Ni-P膜的自腐蚀电位≥-230mV；所述的离子镀Ni-P纳米叠层膜的制备方法包括以下步骤：

1)去除基底材料表面上的油污，使得基底材料表面保持清洁并具有一定活性；

2)将洗净后的工件装在卡具上并置入离子镀膜设备的真空室内，抽真空至0.005～0.01Pa，然后将工件加热到150～200℃，保温10～30min；

3)通氩气使真空室内压力至2～5Pa，给工件加负偏压由0V逐渐升至400～600V，同时进行离子轰击清洗5～10min；

4)调整氩气分压呈周期性梯度变化，以镍磷合金靶材为蒸发源，对步骤2)处理后的工件表面进行离子镀镍磷纳米叠层膜的沉积，蒸发源束流变化范围为50～70A，负偏压变化范围为80～200V，沉积时间为0.5～10h，沉积得到Ni-P纳米叠层膜。

2.根据权利要求1所述的离子镀Ni-P纳米叠层膜，其特征在于，所述纳米叠层Ni-P膜的总厚度在2.5～8μm范围内可调。

3.根据权利要求1所述的离子镀Ni-P纳米叠层膜，其特征在于，每层Ni-P膜的厚度为50～120nm。

4.根据权利要求1所述的离子镀Ni-P纳米叠层膜，其特征在于，所述纳米叠层Ni-P膜中P含量为4～8at％，余量为Ni。

5.根据权利要求1所述的离子镀Ni-P纳米叠层膜，其特征在于，所述步骤4)调整氩气分压呈周期性梯度变化是指:高纯氩气分压从0.6～0.8Pa的低压段经过4～8min调整为1.8～2.8Pa的高压段，完成一个时间周期。

6.根据权利要求1所述的离子镀Ni-P纳米叠层膜，其特征在于，每沉积完一层Ni-P膜后，采用等离子轰击对膜表面进行后处理。

7.根据权利要求6所述的离子镀Ni-P纳米叠层膜，其特征在于，所述等离子轰击处理是指:通氩气使真空室内压力至20～30Pa，给工件加负偏压400～600V，进行等离子轰击处理1～2min。