[发明专利]一种显示基板及其制作方法和显示装置

权利要求书

1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括步骤：

衬底；

在衬底上形成第一金属层，并将第一金属层两侧的区域蚀刻掉，形成栅极；

形成栅极绝缘层，所述栅极绝缘层覆盖栅极；

在栅极绝缘层上使用氢气进行第一次等离子体清洗，再使用氧气进行第二次等离子体清洗，并在栅极绝缘层上形成厚度在1至20埃米之间的氧化硅绝缘层；

在栅极绝缘层上形成有源层；

有源层包括非晶硅层和掺杂层，掺杂层设置在非晶硅层上；

在有源层上分别形成源极和漏极；

在源极和漏极上形成钝化层和透明电极层。

2.一种如权利要求1所述显示基板的制作方法所制作出的的显示基板，其特征在于，包括：

层叠设置的栅极、栅极绝缘层、有源层、源极、漏极、钝化层和透明电极层；

所述栅极绝缘层设置在所述栅极上；

所述栅极绝缘层有经氧离子清洗后形成的一层氧化层；

所述有源层设置在所述栅极绝缘层上；

所述源极和漏极，分别设置在所述有源层的上表面两侧；

所述钝化层和透明电极层，设置在所述漏极和源极上；

其中，所述有源层和栅极绝缘层的接触面先氢气进行第一次等离子体清洗，再经氧气进行等离子体清洗处理，在栅极绝缘层上形成厚度在1至20埃米之间的氧化硅绝缘层。

3.一种显示装置，其特征在于，包括显示面板，所述显示面板包括第一基板和第二基板，所述第一基板包括如权利要求1所述的显示基板。