[发明专利]一种太阳能电池背抛单晶硅片用抛光液

权利要求书

1.一种太阳能电池背抛单晶硅片用抛光液，其特征在于，按照质量百分比，所述抛光液的组分包括：主磨料10-13%，助清除剂3-5.5%，二甲基吡啶0.5-1.1%，表面活性剂0.5-1.3%，葡甘露聚糖1.8-2.2%，赖氨酸0.5-0.9%，有机溶剂8-12%，余量为去离子水。

2.根据权利要求1所述的一种太阳能电池背抛单晶硅片用抛光液，其特征在于，按照质量百分比，所述抛光液的组分包括：主磨料11-12%，助清除剂3.8-4.7%，二甲基吡啶0.7-0.9%，表面活性剂0.7-1.1%，葡甘露聚糖1.9-2.1%，赖氨酸0.6-0.8%，有机溶剂9-10%，余量为去离子水。

3.根据权利要求1所述的一种太阳能电池背抛单晶硅片用抛光液，其特征在于，按照质量百分比，所述抛光液的组分包括：主磨料11.5%，助清除剂4.5%，二甲基吡啶0.8%，表面活性剂0.9%，葡甘露聚糖2.0%，赖氨酸0.7%，有机溶剂9.6%，余量为去离子水。

4.根据权利要求1所述的一种太阳能电池背抛单晶硅片用抛光液，其特征在于：所述助清除剂的制备方法包括如下步骤：

（1）在反应釜中将纳米硅溶胶和DMF溶剂按照1:3的质量比混溶，然后向混合溶液中加入12wt%的十八烷基二甲基叔胺，搅拌并加热反应釜内物料的温度至65-85℃，然后向反应釜内滴35wt%的氯乙酰氯，保温反应8-12h，反应结束后将产物过滤、洗涤、干燥，得到微粉物质；

（2）将上步骤的微粉物质、全氟壬基乙基丙烯酸酯、甲基丙烯酸糖醇酯和三氟乙烷按照1:8:15:60的质量比混合，加入到反应釜中，然后向反应釜内充入惰性气体作为保护气氛；接着向反应釜内加入3wt%的催化剂和5%的乙二胺四亚甲基膦酸；以93-100℃的温度搅拌反应6-12h，然后将反应离心得到沉淀，沉淀物用无水乙醇洗涤后干燥；

（3）将上步骤的沉淀物、甲基丙烯酸甘油醚和偶联剂560按照15:6:1的质量比混合，混合物加入到3倍体积的甲醇溶剂中，超声分散处理10-20min，得到的分散液即为所需的助清除剂。

5.根据权利要求4所述的一种太阳能电池背抛单晶硅片用抛光液，其特征在于：所述步骤（1）使用的纳米硅溶胶中的二氧化硅粒子的粒径为5-15nm。

6.根据权利要求4所述的一种太阳能电池背抛单晶硅片用抛光液，其特征在于：所述步骤（1）中产物的洗涤使用丙酮或甲基氯仿溶剂。

7.根据权利要求4所述的一种太阳能电池背抛单晶硅片用抛光液，其特征在于：所述步骤（2）中的催化剂选用铑系催化剂或钴钼催化剂。

8.根据权利要求1所述的一种太阳能电池背抛单晶硅片用抛光液，其特征在于：所述主磨料为硅溶胶，硅溶胶中粒子的粒径为30-55nm；有机溶剂为乙醇和异丙醇的混合物，混合物中异丙醇的体积分数为18-22%。

9.根据权利要求1所述的一种太阳能电池背抛单晶硅片用抛光液，其特征在于：所述表面活性剂为两性表面活性剂，选择烷基二甲基甜菜碱、烷基氨基丙酸盐、烷基乙氧基磺基甜菜碱中的一种或任意多种的混合物；其中，烷基为十五烷基、十六烷基、十七烷基或十八烷基。

10.根据权利要求1所述的一种太阳能电池背抛单晶硅片用抛光液，其特征在于：所述抛光液的制备方法为：

按照质量百分比，将二甲基吡啶加入有机溶剂中充分溶解，然后将溶液和去离子水、加入到分散釜中搅拌至物料分散均匀；在搅拌的条件下，依次将助清除剂、葡甘露聚糖、赖氨酸和表面活性剂加入，超声分散10-15min，最后将主磨料加入到分散釜中，分散均匀，得到所需抛光液。