[发明专利]一种带有自修复表层的人工关节的制备方法

权利要求书

1.一种带有自修复表层的人工关节的制备方法，其特征在于，所述人工关节由自修复表层和钛合金基底组成，所述自修复表层为聚合物电解质层；

该制备方法包括以下步骤：

(1)配置聚电解质溶液：分别配置聚阳离子电解质溶液和聚阴离子电解质溶液；

(2)将钛合金基底进行羟基化处理，形成羟基化基底；

(3)层层自组装聚电解质层，包括如下分步骤：

(3.1)将羟基化基底放入聚阳离子电解质溶液中浸泡，形成一层聚阳离子电解质层，取出清洗并干燥；

(3.2)然后放入到聚阴离子电解质溶液中浸泡，形成一层聚阴离子电解质层，取出清洗并干燥；

(3.3)依次重复步骤(3.1)和(3.2)，形成具有交错叠加的N层聚阳离子电解质层与N层聚阴离子电解质层的具有多层结构的聚合物电解质层；N≥2；

完成人工关节的制备。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，

聚阳离子电解质溶液采用医用级聚阳离子电解质配制，聚阳离子电解质为聚二烯丙基二甲基氯化铵或壳聚糖中；

聚阴离子电解质溶液采用医用级聚阴离子电解质配制，聚阴离子电解质为聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚苯乙烯磺酸钠或透明质酸钠中的任一种。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述聚阳离子电解质溶液的浓度为0.1-5mg/mL。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述聚阴离子电解质溶液的浓度为0.1-5mg/mL。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述的羟基化处理为氧气等离子体处理、紫外光辐照处理或碱溶液处理。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，

在步骤(3.1)中，羟基化基底在聚阳离子电解质溶液中的每次浸泡时间为1-30min；

在步骤(3.2)中，羟基化基底在聚阴离子电解质溶液中的每次浸泡时间为1-30min。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，羟基化基底在聚阳离子电解质溶液中的每次浸泡时间与在聚阴离子电解质溶液中的每次浸泡时间相同。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，聚合物电解质层的厚度为10nm～500μm。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，

聚阳离子电解质溶液采用壳聚糖制备而成，

聚阴离子电解质溶液采用聚丙烯酸制备而成；

多层聚合物电解质层包括交错叠加的十层聚阳离子电解质层与十层聚阴离子电解质层，该多层聚合物电解质层的厚度为22-28μm。

10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤(3)中，清洗采用去离子水。