[发明专利]一种钕铁硼晶界渗透合金铸片的制备方法有效

专利信息
申请号: 201811363765.6 申请日: 2018-11-16
公开(公告)号: CN109473247B 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 周慧杰 申请(专利权)人: 宁波尼兰德磁业股份有限公司
主分类号: H01F1/057 分类号: H01F1/057;H01F41/02;B22D11/06;C23C14/16
代理公司: 宁波鄞州全方专利商标事务所(普通合伙) 33242 代理人: 何晓珊
地址: 315000 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 钕铁硼晶界 渗透 合金 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种钕铁硼晶界渗透合金铸片的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:

(1)真空熔炼:将钕铁硼合金配分原料按照顺序加入到真空熔炼炉的坩埚中进行熔炼;

(2)浇铸:熔炼的合金熔液温度达到1450~1500℃后,将坩埚中的合金熔液倾倒至浇铸辊上方,经过浇铸辊后形成合金铸片;

(3)真空溅射:在合金铸片浇铸之后,冷却之前进行真空溅射镀膜作业,使未冷却的合金铸片的侧面形成一层重稀土溅射膜;

(4)冷却出炉:真空溅射镀膜作业之后,合金铸片进入水冷装置进行冷却,合金铸片冷却至20~60℃后出炉;

(5)真空热处理:将出炉后的合金铸片放入热处理炉内进行两次热处理;第一次热处理工艺为:真空度为10-5 ~10-3 Pa,处理温度为750~920℃,保温时间为5~7h,冷却至100℃以下;第二次热处理工艺为:真空度为10-2 ~10-1 Pa,处理温度为480~520℃,保温时间为4~5h,冷却至室温。

2.根据权利要求1所述的钕铁硼晶界渗透合金铸片的制备方法,其特征在于,所述真空溅射装置设置于所述浇铸辊下方,所述水冷装置上方。

3.根据权利要求1所述的钕铁硼晶界渗透合金铸片的制备方法,其特征在于,在所述步骤(3)中,所述真空溅射的时间为9~12分钟。

4.根据权利要求1所述的钕铁硼晶界渗透合金铸片的制备方法,其特征在于,在所述步骤(3)中,所述真空溅射镀膜的厚度为0.02-0.2mm。

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