[发明专利]曝光光角量测设备

权利要求书

1.一种曝光光角量测设备，其特征在于，所述曝光光角量测设备包括：

一光学头，包含：

一透光基层；及

一不透光薄膜，具有位于相反侧的一第一表面与一第二表面，并且所述透光基层设置于所述第一表面上；其中，所述不透光薄膜形成有由所述第一表面延伸至所述第二表面的多个次波长环孔；以及

一检测模块，位于所述光学头的一侧，并且所述检测模块与所述光学头相隔有一第一距离，其中，所述光学头能供一基准入射光穿过所述透光基层及多个所述次波长环孔，以通过贝索聚焦方式于所述检测模块上形成有多个基准聚焦点；

其中，当一曝光设备所发出的一入射光穿过所述光学头，以通过贝索聚焦方式于所述检测模块上形成有多个聚焦点时，所述检测模块能够依据多个所述聚焦点分别相对于多个所述基准聚焦点之间的位移距离，量测出所述入射光相对于所述基准入射光的一光角。

2.依据权利要求1所述的曝光光角量测设备，其特征在于，所述检测模块包含有相互电性连接的一影像传感器及一控制器，多个所述基准聚焦点及多个所述聚焦点是聚焦在所述影像传感器上，并且所述控制器能够依据多个所述聚焦点分别相对于多个所述基准聚焦点之间的位移距离，量测出所述入射光相对于所述基准入射光的所述光角。

3.依据权利要求2所述的曝光光角量测设备，其特征在于，所述曝光光角量测设备进一步包括一暗箱，所述光学头与所述影像传感器设置于所述暗箱内，并且所述光学头的一侧部位裸露于所述暗箱外，用以接收所述入射光。

4.依据权利要求1所述的曝光光角量测设备，其特征在于，多个所述次波长环孔呈矩阵状排列，并且所述光学头定义有一中心轴线，而多个所述次波长环孔对称于所述中心轴线；其中，所述基准入射光穿过任一个所述次波长环孔而形成的一基准光轴平行于所述中心轴线，并且所述入射光穿过任一个所述次波长环孔而形成的一光轴是与相对应的所述基准光轴相夹有所述光角。

5.依据权利要求1所述的曝光光角量测设备，其特征在于，形成于所述检测模块上的任一个所述基准聚焦点或任一个所述聚焦点的直径是介于0.3微米至5微米。

6.依据权利要求1所述的曝光光角量测设备，其特征在于，所述透光基层位于远离所述检测模块的所述光学头部位，并且所述第一距离介于60微米至100微米。

7.依据权利要求1所述的曝光光角量测设备，其特征在于，所述曝光光角量测设备进一步包括一光学透镜，并且所述光学透镜位于远离所述检测模块的所述光学头一侧，所述光学透镜与所述光学头间隔有一第二距离，所述第二距离大于所述第一距离。

8.依据权利要求7所述的曝光光角量测设备，其特征在于，所述光学透镜进一步限定为一凸透镜。

9.依据权利要求1所述的曝光光角量测设备，其特征在于，每个所述次波长环孔能使由所述透光基层往所述不透光薄膜行进的所述入射光于所述不透光薄膜上产生一表面电浆波。

10.依据权利要求9所述的曝光光角量测设备，其特征在于，所述不透光薄膜于所述第二表面上凹设有多个环沟，并且多个所述环沟分别位于多个所述次波长环孔的内侧，使对应于每个所述次波长环孔的所述表面电浆波能于相对应的所述环沟进行耦合成光。