[发明专利]光学感测结构及其形成方法

权利要求书

1.一种光学感测结构，其特征在于，所述光学感测结构包括：

一感测像素阵列，位于一基板中，其中该感测像素阵列包括多个感测像素；

一光准直层，位于该基板之上；以及

至少一导通孔，由该基板的一第一表面延伸至相对的一第二表面，其中该至少一导通孔位于该感测像素阵列中，且不与该些感测像素垂直重叠；以及

所述至少一导通孔包括：

一贯孔；

一导电层，填充于该贯孔内；以及

一晶种层，设置于该贯孔内，且介于该导电层与该基板之间。

2.根据权利要求1所述的光学感测结构，其特征在于，所述光学感测结构还包括至少一导电部件，位于该第二表面上且相应地连接于该至少一导通孔。

3.根据权利要求2所述的光学感测结构，其特征在于，所述至少一导电部件包括导电垫、导电凸块、导电柱、或上述多个之间的组合。

4.根据权利要求1所述的光学感测结构，其特征在于，所述光准直层包括：

多个透光柱，对应设置于该感测像素阵列的该些感测像素之上；以及

一遮光层，位于该基板之上且填充于该些透光柱之间。

5.根据权利要求4所述的光学感测结构，其特征在于，所述透光柱由一透明材料所形成，并且该透明材料在300纳米至1200纳米波长范围下的光穿透率大于90％。

6.根据权利要求4所述的光学感测结构，其特征在于，所述遮光层由光阻、油墨、模制化合物、防焊材料或上述多个之间的组合所形成。

7.根据权利要求4所述的光学感测结构，其特征在于，所述遮光层包括金属材料。

8.根据权利要求4所述的光学感测结构，其特征在于，所述光准直层还包括一遮光盖，位于该遮光层之上。

9.根据权利要求8所述的光学感测结构，其特征在于，所述遮光盖为一树脂遮光盖，并且该树脂遮光盖在300纳米至1200纳米波长范围下的光穿透率小于1％。

10.一种光学感测结构的形成方法，其特征在于，所述方法包括:

在一基板中形成至少一导通孔其中所述至少一导通孔包括：

一贯孔；

一导电层，填充于该贯孔内；以及

一晶种层，设置于该贯孔内，且介于该导电层与该基板之间；

在该基板中形成一感测像素阵列，其中该感测像素阵列包括多个感测像素，且其中该至少一导通孔位于该感测像素阵列中，且不与该些感测像素垂直重叠；以及

在该基板之上形成一光准直层。

11.根据权利要求10所述的光学感测结构的形成方法，其特征在于，所述方法还包括形成至少一导电部件，且该至少一导电部件与相应该至少一导通孔电性连接。

12.根据权利要求11所述的光学感测结构的形成方法，其特征在于，所述至少一导电部件包括导电垫、导电凸块、导电柱、或上述多个之间的组合。

13.根据权利要求10所述的光学感测结构的形成方法，其特征在于，形成该至少一导通孔的步骤包括，对该基板的底表面实施一平坦化工艺，去除一部分该基板，以露出该至少一导通孔的底表面。

14.根据权利要求10所述的光学感测结构的形成方法，其特征在于，所述光准直层包括：

多个透光柱，对应设置于该感测像素阵列的该些感测像素之上；以及

一遮光层，位于该基板之上且填充于该些透光柱之间。

15.根据权利要求14所述的光学感测结构的形成方法，其特征在于，所述透光柱由一透明材料所形成，并且该透明材料在300纳米至1200纳米波长范围下的光穿透率大于90％。