[发明专利]一种光束调制元件、光学投影模组、感测装置及设备在审

专利信息
申请号: 201811375403.9 申请日: 2018-11-19
公开(公告)号: CN109634037A 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 林峰 申请(专利权)人: 深圳阜时科技有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518055 广东省深圳市南山*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 光斑图案 光束调制 光学调制 感测装置 光学基材 光学投影 模组 位置偏移 感测 两组 投射 预设 光源 申请 三维
【权利要求书】:

1.一种光束调制元件,用于将一光源所发出的光束调制成能够投射出用于三维感测的光斑图案的光束,所述光束调制元件包括光学基材及形成在光学基材上的至少两组不同的光学调制结构,每一组所述光学调制结构分别生成对应的光斑图案,所述不同组的光学调制结构所生成的光斑图案彼此相同但相互之间存在一预设的位置偏移。

2.如权利要求1所述的光束调制元件,其特征在于,所述光斑图案是光学调制结构将光源的光源发光体图案单元复制多份后周期性组合形成的。

3.如权利要求1所述的光束调制元件,其特征在于,所述光学调制结构选自衍射光学结构、光学微透镜阵列及光栅结构中的一种及其组合。

4.如权利要求2所述的光束调制元件,其特征在于,若所述位置偏移在一个光源发光体图案单元的周期内,所述位置偏移沿任意方向分解的最小偏移量大于或等于光斑图案中相邻光斑中心间距平均值的0.4倍。

5.如权利要求4所述的光束调制元件,其特征在于,若所述光斑图案的偏移超出了一个光源发光体图案单元周期所在的范围,则所述位置偏移沿任意方向分解的最小偏移量在减去单个光源发光体图案单元沿该方向尺寸的所超出的周期数的整数倍后仍满足大于或等于光斑图案中相邻光斑中心间距平均值的0.4倍。

6.如权利要求1所述的光束调制元件,其特征在于,偏移重叠后的光斑图案的光斑占空比范围为大于等于单个光斑图案的光斑占空比的1.3倍而小于或等于单个光斑图案的光斑占空比的2倍。

7.一种光学投影模组,用于投射出预设的光斑图案至被测目标物上进行三维感测,所述光学投影模组包括如权利要求1至6中任意一项所述的光束调制元件及光源,所述光源发射出具有预设空间排布的一组感测光束,所述光束调制元件将感测光束按照预设规则进行复制后在被测目标物上投射出用于三维感测的预设光斑图案。

8.如权利要求7所述的光学投影模组,其特征在于,所述光源包括半导体基底及形成在所述半导体基底上的发光体,所述发光体为垂直腔面发射激光器。

9.一种感测装置,,其用于感测被测目标物的三维信息,其包括感测模组及如权利要求7或8中任意一项所述的光学投影模组,所述感测模组用于感测所述光学模组在被测目标物上投射的预设图案并通过分析所述预设图案的图像获取被测标的物的三维信息。

10.一种设备,包括权利要求9所述的感测装置,所述设备根据所述感测装置所感测到的被测目标物的三维信息来执行相应功能。

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