[发明专利]一种高可靠性CVD石墨烯透明红外发射膜及其制备方法

权利要求书

1.一种高可靠性CVD石墨烯透明红外发射膜，包括从下至上依次层叠设置的透明基底、石墨烯层和电极层，其特征在于，所述透明基底和所述石墨烯层之间设置附着力增强层，且所述附着力增强层与所述石墨烯层直接接触，其中，所述附着力增强层是由富含极性有机官能团的聚合物制成的，其中，所述极性有机官能团包括羟基、羧基、巯基和磺酸基中的任意一种，或者所述极性有机官能团包括羟基和巯基；

所述高可靠性CVD石墨烯透明红外发射膜的制备方法为：

将甲基丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟乙酯（HEA）、甲基丙烯酸（MA）、丙烯酸（AA）中的任意一种或一种以上的单体，与光活性树脂和光引发剂搅拌溶解，得到透明光固化前驱液；其中，所述光活性树脂为聚丙二醇醚主链的含双键光活性树脂，或者聚己内酯二丙烯酸酯，或者氢化聚丁二烯二丙烯酸酯，或共聚丙烯酸酯二丙烯酸酯；

将所述透明光固化前驱液喷涂在预先通过CVD法制备得到的单层石墨烯薄膜上；

将涂布有透明光固化前驱液的单层石墨烯薄膜辊压贴合在透明基底上，并通过 UV 辐照方式使前驱液固化形成所述透明基底与所述石墨烯层之间的附着力增强层；然后在所述石墨烯层上布设电极层。

2.如权利要求1所述的一种高可靠性CVD石墨烯透明红外发射膜，其特征在于，所述附着力增强层中的极性有机官能团含量为0.17-2.1mol/100g。

3.如权利要求2所述的一种高可靠性CVD石墨烯透明红外发射膜，其特征在于，所述附着力增强层的厚度为0.1-500um。

4.如权利要求3所述的一种高可靠性CVD石墨烯透明红外发射膜，其特征在于，所述附着力增强层的厚度为0.1-15um。

5.如权利要求1至4中任意一项所述的一种高可靠性CVD石墨烯透明红外发射膜，其特征在于，所述石墨烯层为通过CVD方法制备的单层石墨烯薄膜，由众多小单晶拼接而成的连续结构，其所包含石墨烯单晶大小为0.1-100um。

6.如权利要求5所述的一种高可靠性CVD石墨烯透明红外发射膜，其特征在于，石墨烯单晶平均大小为3-6um。

7.如权利要求1至4中任意一项所述的一种高可靠性CVD石墨烯透明红外发射膜，其特征在于，所述聚合物为非交联的线性或支化结构，或者化学交联结构；和/或，所述聚合物的硬度为10-90HA。

8.如权利要求1至7中任意一项所述的一种高可靠性CVD石墨烯透明红外发射膜的制备方法，其特征在于，包括步骤：

将甲基丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟乙酯（HEA）、甲基丙烯酸（MA）、丙烯酸（AA）中的任意一种或一种以上的单体，与光活性树脂和光引发剂搅拌溶解，得到透明光固化前驱液；其中，所述光活性树脂为聚丙二醇醚主链的含双键光活性树脂，或者聚己内酯二丙烯酸酯，或者氢化聚丁二烯二丙烯酸酯，或共聚丙烯酸酯二丙烯酸酯；

将所述透明光固化前驱液喷涂在预先通过CVD法制备得到的单层石墨烯薄膜上；

将涂布有透明光固化前驱液的单层石墨烯薄膜辊压贴合在透明基底上，并通过 UV 辐照方式使前驱液固化形成所述透明基底与所述石墨烯层之间的附着力增强层；然后在所述石墨烯层上布设电极层。

9.如权利要求8所述的一种高可靠性CVD石墨烯透明红外发射膜的制备方法，其特征在于，制备所述光固化前驱液时加入质量百分比为2-5 wt %的单官能硫醇或多官能硫醇。

10.如权利要求9所述的一种高可靠性CVD石墨烯透明红外发射膜的制备方法，其特征在于，所述单官能硫醇或多官能硫醇为十二烷基硫醇、巯基乙醇、硫代二甘醇、三羟甲基丙烷三（2-巯基乙酸酯）或季戊四醇四（2-巯基乙酸酯）。