[发明专利]一种氯化锶、多肽复合制剂的制备方法及应用在审

专利信息
申请号: 201811380742.6 申请日: 2018-11-20
公开(公告)号: CN111195213A 公开(公告)日: 2020-05-26
发明(设计)人: 李一民;何非凡;张发恒 申请(专利权)人: 广州市阳光美域日用品有限公司
主分类号: A61K8/73 分类号: A61K8/73;A61K8/65;A61K8/64;A61K8/20;A61Q19/00
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 谈杰
地址: 510440 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 氯化 多肽 复合 制剂 制备 方法 应用
【说明书】:

本发明公开了一种医药产品及其的应用,特别涉及一种氯化锶、多肽复合制剂的制备方法及应用。解决上述问题而提供一种氯化锶、多肽复合制剂的制备方法及其修复皮肤屏障的应用。包括以下组分:去离子水50‑80份、氯化锶5‑10份、胶原5‑10份、透明质酸5‑10份、甘油1‑5份、丙二醇1‑5份、寡肽‑1 1‑5份、寡肽‑2 1‑5份、寡肽‑5 1‑5份、辛酰羟肟酸0.1‑1份、1,2己二醇0.1‑1份采用六个步骤制作。本发明从更微观的层面展开了研究,让分子结构小的寡肽能穿过毛孔进入皮肤的基底层,促进表皮干细胞分裂分化过程,调节细胞层层向外更新,促进上皮组织新陈代谢,到达改变细胞表达方式来对皮肤屏障进行修复。添加了氯化锶、类人胶原蛋白不仅能让多肽有着更好的协同效果。

技术领域

本发明涉及一种医药产品及其的应用,属于药品、化工以及个人护理品行业,特别涉及一种氯化锶、多肽复合制剂的制备方法及应用。

背景技术

近年来,由于经济水平的高速发展、生活水平的不断提高,消费者对化妆品的要求逐渐提升,导致市场上护肤品质量良莠不齐,部分商家为了追求利益,违规添加、再加上皮肤经常暴露于、紫外线、微生物、微粒以及一系列刺激之下,大量刺激加上抵抗力低下就会破坏角质层的完整性,最终导致皮肤屏障受损。

一个健康的皮肤屏障是能够抵御外界有害物质和其他刺激的侵袭的,同时皮肤屏障还具有保湿和调节作用。健康的皮肤屏障像是一件皮肤盔甲,能很好的保护皮肤。皮肤屏障一旦受损,就会使得皮肤自身防御能力不足,皮肤就会敏感受损。

皮肤的屏障功能被破坏了,最直接的表现是皮肤会变的很干,因为水份非常容易流失,除了脸颊容易干燥脱屑之外,在一些人的脸上还会表现为油脂分泌更加旺盛,从而导致毛孔堵塞,造成闭口粉刺和痘痘加重。

皮肤屏障受损将引起皮肤干燥,皮肤老化、色素沉着、湿疹、日光性皮炎等皮肤敏感,还可能会引发座疮、酒糟鼻、脂溢性皮炎等。

皮肤屏障受损后,皮肤的耐受性下降,对于外来的各种物理或化学因素表现出不耐受,比如受到风吹、日晒、环境温度过冷过热的变化皮肤就会发红、发烫、发痒、刺痛。有的人甚至对以前使用起来正常的护肤品如今用起来都会感到刺痛甚至起疹子,这些表现都在提示皮肤屏障功能受损了。

皮肤屏障广义包括物理屏障、色素屏障、神经屏障、免疫屏障。狭义主要指物理性屏障, 平时说的都是指物理屏障。

物理性屏障由皮脂膜、角质层角蛋白、脂质、“三明治”结构、砖墙结构、真皮粘多糖类、粘多糖类等共同构成,抵御外界有害、刺激物、日光进人,同时具有保湿及调节抗炎作用。皮肤物理屏障受损将引起皮肤干燥,皮肤老化、色素沉着异位性皮炎、湿疹、银屑病、鱼鳞病、日光性皮炎等皮肤敏感、刺激性皮炎、激素依赖性皮炎等皮肤油腻,皮脂溢出性疾病,如座疮、酒糟鼻、脂溢性皮炎。

中国专利CN104173207B公开了一种皮肤屏障修复制剂及其制备方法,该方法主要是解决复合神经酰胺的溶解问题,从补充体内神经酰胺来进行修复皮肤屏障,但是目前市场上的神经酰胺昂贵,且大部分为化学合成方式形成,进入皮肤后并不能与人体的神经酰胺充分结合。因此,本专利采用一种氯化锶、多肽复合制剂的制备方法,通过镇静皮肤,模拟皮肤层机构进行保湿及调节上皮细胞的新陈代谢来进行皮肤屏障的修复。

发明内容

本发明的目的在于提供一种新型煤层气发电装置,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:

一种氯化锶、多肽复合制剂的制备方法及应用,其特征在于包括以下组分:

去离子水50-80份、氯化锶5-10份、胶原5-10份、透明质酸5-10份、甘油1-5份、丙二醇1-5份、寡肽-1 1-5份、寡肽-2 1-5份、寡肽-5 1-5份、辛酰羟肟酸0.1-1份、1,2己二醇0.1-1 份,

保湿成分:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州市阳光美域日用品有限公司,未经广州市阳光美域日用品有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811380742.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top