[发明专利]一种汽车外部涂装用抗划伤罩光清漆及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811381859.6 申请日: 2018-11-20
公开(公告)号: CN109370406A 公开(公告)日: 2019-02-22
发明(设计)人: 沈左红 申请(专利权)人: 沈左红
主分类号: C09D175/04 分类号: C09D175/04;C09D5/33;C09D5/08;C09D7/62
代理公司: 北京和鼎泰知识产权代理有限公司 11695 代理人: 杨冬玲
地址: 238000 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 罩光清漆 抗划伤 汽车外部 涂装 组份 制备 丙烯酸树脂 水性羟基 质量比 亲水性脂肪族聚异氰酸酯 附着力 有机硅氧烷改性 小分子扩链剂 硅烷偶联剂 抗划伤助剂 纳米氮化硅 纳米氮化铝 纳米碳化硅 耐腐蚀性能 玻璃微珠 去离子水 加强剂 抗刮伤 流平剂 纳米晶 消泡剂 溶剂 漆膜 清漆 美观 平整 老化
【说明书】:

本发明提供了一种汽车外部涂装用抗划伤罩光清漆及其制备方法,涉及清漆技术领域,汽车外部涂装用抗划伤罩光清漆,由甲组份与乙组份组成,其中甲组份与乙组份的质量比为1:0.35‑0.5;甲组份:有机硅氧烷改性水性羟基丙烯酸树脂55‑70%、水性羟基丙烯酸树脂10‑22%、TiO2纳米晶/玻璃微珠1.5‑6.8%、小分子扩链剂2‑5%、抗划伤助剂0.2‑0.55%、硅烷偶联剂0.1‑0.35%、流平剂0.5‑1.5%、消泡剂0.5‑1%,去离子水8‑15%;所述抗划伤加强剂由纳米氮化硅、纳米氮化铝、纳米碳化硅按质量比1:0.2‑1.5:0.5‑2混合而成;乙组份:亲水性脂肪族聚异氰酸酯60‑80%、溶剂20‑40%。本发明制备得到的罩光清漆抗刮伤性能优异,且漆膜平整美观,附着力好,耐老化、耐腐蚀性能优异。

技术领域

本发明涉及清漆技术领域,具体涉及一种汽车外部涂装用抗划伤罩光清漆及其制备方法。

背景技术

传统的溶剂型涂料中的溶剂含量常在40%以上,有的涂料如硝基漆在施工时的溶剂含量高达80%,汽车涂装的溶剂型金属色漆溶剂含量高达85%,据统计,由于有机溶剂造成的大气污染的90%来源于涂料和油墨中使用的溶剂。这些挥发有机物进入大气,会造成环境污染,同时对涂装工人的身体健康造成危害。

随着经济和生活水平的不断提高,人们对汽车涂装品质的要求也不断提高。国内和国际汽车市场竞争日益加剧,对高品质涂料的需求越来越强烈。中国专利CN 101445690B公开了一种汽车外部涂装用丙烯酸-氨基型罩光清漆,其由热固性羟基丙烯酸树脂、氨基交联剂、酸性催化剂、流平剂、抗划伤性加强助剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、稀释剂组成。所得罩光清漆有效提高了清漆涂层的抗划伤性,有效增强了汽车抵抗在行驶过程中、洗车过程中受到擦伤的能力。但是其所用的稀释剂较多,仍然会对环境造成较大的危害。

目前,德国、美国和中国的大众、奔驰等汽车厂都已大范围地使用双组分清漆。双组分清漆指丙烯酸涂料或聚氨酯涂料,与传统的硝基或热塑性丙烯酸树脂等汽车涂料相比,其施工固体分高、VOC排放低、涂膜丰满、装饰性好、耐候性较好、耐酸雨性能卓越、抗划伤性能优异,从而日渐受到汽车业界的重视。其中PU罩光清漆主要使用在在高档汽车上,作为最为表面的涂料,罩光清漆是起保护和装饰作用最为关键的一道涂层。汽车工业不但要求罩光清漆具有优异的外观,还要求它具有非常好的耐候性、耐溶剂性能和抗刮伤性。

中国专利CN 108047924 A公开了一种强化耐候罩光清漆及其制备方法与应用,该罩光清漆由主剂和硬化剂组成,主剂通过使用丙烯酸聚氨酯树脂配以填料、催化剂、消泡剂、流平剂、光吸收剂、光稳定剂、溶剂等材料再配合硬化剂的聚异氰酸酯、吸水剂、溶剂等制成强化耐候罩光清漆。该罩光清漆可在自干或中低温烘烤条件下涂于配套的涂料涂层上。该罩光清漆强化了原配套涂层的耐候性,解决了一般罩光清漆只具有装饰性不能有效强化涂层耐候性的问题,特别是在非闪光类面漆的耐候性强化上起到了非常大的作用。但是上述高光清漆或罩光漆膜的硬度偏低,从而导致抗划伤性能有限。

发明内容

为为现有技术中双组份罩光清漆中抗划伤性能较差的问题,本发明提供了一种汽车外部涂装用抗划伤罩光清漆及其制备方法,制备得到的罩光清漆抗刮伤性能优异,且漆膜平整美观,附着力好,耐老化、耐腐蚀性能优异。

为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:

一种汽车外部涂装用抗划伤罩光清漆,由甲组份与乙组份组成,其中甲组份与乙组份的质量比为1:0.35-0.5;

甲组份:有机硅氧烷改性水性羟基丙烯酸树脂55-70%、水性羟基丙烯酸树脂10-22%、TiO2纳米晶/玻璃微珠1.5-6.8%、小分子扩链剂2-5%、抗划伤助剂0.2-0.55%、硅烷偶联剂0.1-0.35%、流平剂0.5-1.5%、消泡剂0.5-1%,去离子水8-15%;

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