[发明专利]移动终端及其壳体和壳体上加工logo的方法在审
申请号: | 201811391176.9 | 申请日: | 2018-11-21 |
公开(公告)号: | CN109552721A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 邱伟 | 申请(专利权)人: | OPPO(重庆)智能科技有限公司 |
主分类号: | B65C9/22 | 分类号: | B65C9/22;B65C1/02;G12B9/04 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 何锋 |
地址: | 401120 重庆*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 壳体 金属壳体 移动终端 粘接面 加工 胶水 底面 镭雕 粘接 高粗糙度 盖壳体 粘结面 附着 嵌设 申请 标示 装配 展示 | ||
本申请涉及一种移动终端及其壳体和壳体上加工logo的方法,该壳体上加工logo的方法包括步骤:提供logo本体;在金属壳体上开设与logo本体相对应的凹槽;对凹槽的底面进行镭雕,以形成粘接面;将logo本体通过胶水粘接于粘接面,且使得logo本体嵌设于凹槽内,获得具有logo的壳体。本申请的壳体上加工logo的方法,通过在设置凹槽的底面进行镭雕,以形成具有较高粗糙度的粘接面,从而使得logo本体与金属壳体通过胶水粘接于粘结面时,两者之间具有较大的粘着力,以降低logo本体从金属壳体脱落的风险。从而通过该方法加工而成的壳体,logo不容易出现脱落不良的问题,进而装配有盖壳体的移动终端中,logo能够较稳定的附着于壳体,以更好地起到标示、展示等效果。
技术领域
本申请涉及电子设备的壳体技术领域,特别是涉及移动终端及其壳体和壳体上加工logo的方法。
背景技术
随着电子技术的迅速发展,手机、平板电脑等电子设备成为大众日常工作、生活的常用产品,这些电子设备的壳体上通常设有Logo(logotype的缩写,一般指徽标、商标),在电子设备中,logo是一个十分重要的元素,代表着品牌及价值。然而logo在设置于壳体时,容易出现脱落不良现象,导致壳体需要进行返工,影响企业形象。
发明内容
本申请实施例提供一种壳体上加工logo的方法及通过该方法加工而成的壳体和包括该壳体的移动终端,该方法可以有效解决logo容易出现脱落的不良问题。
本申请提供了一种壳体上加工logo的方法,包括以下步骤:
提供logo本体;
在金属壳体上开设与所述logo本体相对应的凹槽;
对所述凹槽的底面进行镭雕,以形成粘接面;
将所述logo本体通过胶水粘接于所述粘接面,且使得所述logo本体嵌设于所述凹槽内,获得具有logo的壳体。
在其中一个实施例中,所述在金属壳体上开设与所述logo本体相对应的凹槽的步骤包括:
在所述金属壳体上划定与所述logo本体相对应的开槽区;
对所述金属壳体进行CNC加工,去除所述开槽区对应的部分,以在所述金属壳体上形成所述凹槽。
在其中一个实施例中,在所述金属壳体上形成所述凹槽后,还包括步骤:沿所述开槽区的轮廓对所述凹槽进行修边,进行修边时,走刀速度的取值范围为15mm/s至20mm/s,所采用的砂轮棒为1000目,转速为30000r/min。
在其中一个实施例中,在所述在金属壳体上开设与所述logo本体相对应的凹槽的步骤之前包括步骤:
对金属壳体进行第一次阳极氧化;
在所述在金属壳体上开设与所述logo本体相对应的凹槽的步骤之后包括步骤:
对金属壳体进行第二次阳极氧化。
在其中一个实施例中,对所述凹槽的底面进行镭雕时,镭雕区域的宽度至少占该区域所对应的凹槽宽度的一半,且镭雕区域的边缘与凹槽的边缘间隔大于0.15mm。
在其中一个实施例中,对所述凹槽的底面进行镭雕时,在凹槽的深度方向上,镭雕深度不大于0.015mm。
在其中一个实施例中,对所述凹槽的底面进行镭雕后,所形成的粘接面上具有镭雕纹路,且镭雕纹路中相邻纹路之间的间隔为0.02mm至0.03mm。
在其中一个实施例中,对所述凹槽的底面进行镭雕时,采取抽气的方式吸走镭雕碎屑,且于镭雕后,用风枪吹2s至3s。
另一方面,本申请提供了一种壳体,采用上述的方法加工而成。
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