[发明专利]一种新型纤锌矿GaAs核壳纳米线光电探测器的制备方法有效
申请号: | 201811395186.X | 申请日: | 2018-11-22 |
公开(公告)号: | CN109616553B | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 袁小明;李琳;李子园;王帆;王乃印;傅岚;何军;浩克·侯·谭;前那帕提·贾加迪什 | 申请(专利权)人: | 中南大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0304;H01L31/0352;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 广州凯东知识产权代理有限公司 44259 | 代理人: | 李勤辉 |
地址: | 410000 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 锌矿 gaas 纳米 光电 探测器 制备 方法 | ||
1.一种纤锌矿GaAs核壳纳米线光电探测器的制备方法,包括以下步骤:
(1)将干净的GaAs(111)B单晶衬底先后浸泡在多聚赖氨酸溶液和金溶胶中,然后再用去离子水清洗并干燥;
(2)将干燥后的衬底放入到金属有机气相沉积系统中,通入高纯氢气作为载气,然后通入砷化氢,将衬底加热到600℃,保温一段时间,然后降温至575℃,再通入三甲基镓,保持一段时间,以生长纤锌矿GaAs纳米线;
(3)完成纤锌矿GaAs纳米线生长之后,将衬底加热,然后通入三甲基铟和磷化氢,并调整三甲基镓的流量,保持一段时间,以生长纤锌矿GaAs纳米线的GaInP壳结构;
(4)完成纤锌矿GaAs纳米线的GaInP壳结构生长之后,将所制备的核壳纳米线转移到Si/SiO2衬底上,然后在纳米线表面涂上一层ZEP光刻胶,然后在纳米线两端刻画出两个沟道,随后利用氧气等离子体去除剩余的残胶,之后利用稀盐酸腐蚀纳米线以去除掉纳米线InP壳层,随后立即在暴露的纳米线表面镀上Ti/Au合金以制备电极;
(5)完成纳米线电极制备后,去除掉剩余的ZEP光刻胶,得到纤锌矿GaAs核壳纳米线光电探测器;步骤(3)中,将衬底加热到600~740℃,三甲基铟的流量为0.54×10-5 mol/min~0.81×10-5 mol/min,磷化氢的流量为1.35×10-2 mol/min,并调整三甲基镓的流量为0.54×10-5 mol/min~0.81×10-5 mol/min,保持一段时间为8min。
2.根据权利要求1所述的方法,步骤(1)中,所述多聚赖氨酸溶液的浓度为1%,所述金溶胶的直径为50nm。
3.根据权利要求2所述的方法,步骤(1)中,先在多聚赖氨酸溶液浸泡1min,然后在金溶胶中浸泡1min。
4.根据权利要求1所述的方法,步骤(1)中,所述干燥为用氮气枪吹干。
5.根据权利要求1所述的方法,步骤(2)中,所述高纯氢气的流量为15L/min,将衬底加热到600℃,保温10min。
6.根据权利要求5所述的方法,步骤(2)中,降温至575℃后,将砷化氢的流量调整为3.552×10-5 mol/min,通入三甲基镓的流量为2.03×10-5 mol/min,保持一段时间为60min。
7.根据权利要求1所述的方法,步骤(4)中,所述Si/SiO2衬底中SiO2层的厚度是200纳米,Si/SiO2衬底上预先制备有作为位置标记的Au薄膜。
8.根据权利要求1所述的方法,步骤(4)中,所述ZEP光刻胶层的厚度为100nm,所述沟道的长度为4.5μm。
9.根据权利要求1所述的方法,步骤(4)中,所述稀盐酸浓度为9%,腐蚀纳米线3分40秒以去除掉纳米线InP壳层;所述Ti/Au合金的厚度分别为10nm和220nm。
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