[发明专利]一种抗光银幕及其制备方法

权利要求书

1.一种抗光银幕，其特征在于：所述抗光银幕包括幕布和封装幕布边缘的边框布，所述边框布和幕布采用纽扣铆钉固定；所述幕布包括从下到上依次设置的基底层、遮光层、胶粘层、散热层、聚光层和防刮层；所述散热层均匀的设置有小孔，所述聚光层为棱形结构，所述防刮层由微球结构组成。

2.根据权利要求1所述的一种抗光银幕，其特征在于：所述散热层设置的小孔直径为0.02～0.5mm，所述小孔与小孔之间的间距为20～50mm。

3.根据权利要求1所述的一种抗光银幕，其特征在于：所述防刮层为玻璃微球或者纳米二氧化硅微球，所述防刮层的厚度为20～50nm。

4.一种抗光银幕的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

1)选用塑料材料作为基底层；

2)将塑料基底加热到半熔融状态，并采用热压贴合的方式将遮光层与塑料基底层进行热压贴合；

3)对散热层进行打孔，并采用胶粘层将散热层与遮光层进行贴合；

4)采用涂布的方式在散热层表面涂布一层聚光层，并用压花的方式在表面压出棱形结构；

5)采用真空溅射的方式在聚光层表面溅射一层防刮层；

6)采用超声波熔接的方式将边框布和幕布边缘进行熔接贴合，贴合之后在边框布上冲压纽扣铆钉，得到抗光银幕成品。

5.根据权利要求5所述的一种抗光银幕的制备方法，其特征在于：所述步骤1)的基底层为聚氨酯PU、聚酯PET、尼龙PA、聚酰胺PPS、聚碳酸酯PC、聚丙烯PP、聚醚砜PES、聚萘二甲酸乙二醇酯PEN、聚氯乙烯PVC、聚苯乙烯PS、聚醚醚酮PEEK其中的一种，所述基底层的厚度为2～30μm。

6.根据权利要求5所述的一种抗光银幕的制备方法，其特征在于：所述遮光层选用遮光布、遮光纤维或者遮光薄膜，所述遮光层的厚度为2～20μm。

7.根据权利要求5所述的一种抗光银幕的制备方法，其特征在于：所述步骤2)热压贴合采用150℃下50s快速压辊的方法进行贴合；所述步骤3)的贴合方式采用120～150℃下20～30s快速压辊的方法进行贴合。

8.根据权利要求5所述的一种抗光银幕的制备方法，其特征在于：所述步骤3)的胶粘层为热塑性聚氨酯弹性体TPU、OCA光学胶、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA胶、硅胶其中的一种，所述胶粘层的厚度为5～30μm。

9.根据权利要求5所述的一种抗光银幕的制备方法，其特征在于：所述步骤5)涂布采用辊涂方式，涂布速度为5m/min，涂布的厚度为20～30μm，在涂布的涂液干燥之前采用压花辊将涂层压出棱形结构，再对涂层进行干燥固化，涂层干燥固化的条件为80～100℃下2～3min。

10.根据权利要求5所述的一种抗光银幕的制备方法，其特征在于：所述步骤7)边框布为黑色PVC膜，所述边框布的厚度为20～50μm。