[发明专利]一种四氯化锗水解装置的进料机构及其控制系统与应用在审

专利信息
申请号: 201811400268.9 申请日: 2018-11-22
公开(公告)号: CN109289707A 公开(公告)日: 2019-02-01
发明(设计)人: 崔丁方;李恒方;廖吉伟;彭明清;陈知江;陈元欣;李雪寅;匡子登;何斌;蔡文红;陈志朋;罗谦 申请(专利权)人: 云南驰宏国际锗业有限公司
主分类号: B01J4/00 分类号: B01J4/00
代理公司: 北京知呱呱知识产权代理有限公司 11577 代理人: 武媛;吕学文
地址: 655700 云南省曲靖市麒麟区翠峰*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 进料机构 控制系统 水解装置 四氯化锗 混合室 流量控制结构 液体流量 加料 水解室 卡块 对称设置 二氧化锗 间隙调节 密度差异 不均匀 下料管 液压泵 料管 应用 转入 申请
【权利要求书】:

1.一种四氯化锗水解装置的进料机构,所述水解装置包括混合室、水解室、以及用于将液体由混合室转入水解室的液压泵,其特征在于:所述的进料机构包括设置在混合室顶部的下料管、以及设置在下料管内用于控制液体流量的流量控制结构,该流量控制结构包括对称设置的两个卡块,通过调节两个卡块的间隙调节液体的流量。

2.根据权利要求1所述四氯化锗水解装置的进料机构,其特征在于:所述的卡块为半椭球体,半椭球体的弧形面与下料管的管壁固定连接。

3.根据权利要求1所述四氯化锗水解装置的进料机构,其特征在于:所述水解装置上设有用于控制两个卡块间隙的控制系统。

4.根据权利要求3所述四氯化锗水解装置的进料机构,其特征在于,所述的控制系统包括:

流量传感器,用于测定两个卡块之间的液体流量,

PLC逻辑管理控制器,将流量传感器测定的流量与预设值就行比较,并发出指令,以及

流量控制阀,接收PLC逻辑管理控制器发出的指令,当流量传感器测定的流量大于预设值时,流量控制阀减小两个卡块之间的间隙,当流量传感器测定的流量小于预设值时,流量控制阀扩大两个卡块之间的间隙。

5.根据权利要求4所述四氯化锗水解装置的进料机构,其特征在于:所述流量控制阀套设在下料管的外部,且流量控制阀与两个卡块的位置相对应。

6.一种GeO2的制备方法,包括将四氯化锗精馏液送入四氯化锗水解装置中水解制得GeO2,其特征在于:所述四氯化锗水解装置上安装有权利要求1—5中任一项所述的进料机构。

7.根据权利要求6所述GeO2的制备方法,其特征在于:四氯化锗精馏液的水解时间为300min。

8.根据权利要求6所述GeO2的制备方法,其特征在于:四氯化锗精馏液由进料机构送入四氯化锗水解装置时的液体流量为1L/h。

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