[发明专利]高活性多孔g-C3N4光催化剂及其制备方法与应用在审
申请号: | 201811402344.X | 申请日: | 2018-11-23 |
公开(公告)号: | CN109317185A | 公开(公告)日: | 2019-02-12 |
发明(设计)人: | 范晓星;蔡鹤;韩东远;裴宇鹏;景新媚;王绩伟 | 申请(专利权)人: | 辽宁大学 |
主分类号: | B01J27/24 | 分类号: | B01J27/24;B01J35/10;A62D3/17;A62D101/28 |
代理公司: | 沈阳杰克知识产权代理有限公司 21207 | 代理人: | 胡洋 |
地址: | 110000 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光催化剂 高活性 前驱体 煅烧 制备 三聚氰胺水溶液 制备方法和应用 氮气 烘箱 光催化活性 可见光 磁力搅拌 电子空穴 空气环境 目标产物 纳米材料 研磨 高产率 混合液 乙醛酸 烘干 产率 放入 复合 应用 | ||
1.高活性多孔g-C3N4光催化剂,其特征在于,制备方法包括如下步骤:
1)在磁力搅拌下,向三聚氰胺水溶液中,逐滴加入乙醛酸,将所得混合液放入烘箱中,于80-150℃下烘干,得前驱体;
2)将前驱体研磨,在氮气的环境下进行煅烧,得中间产物;
3)将中间产物在空气环境下,进行煅烧,得目标产物高活性多孔g-C3N4光催化剂。
2.根据权利要求1所述的高活性多孔g-C3N4光催化剂,其特征在于,步骤1)中三聚氰胺水溶液的浓度为0.1-1mol/L。
3.根据权利要求1所述的高活性多孔g-C3N4光催化剂,其特征在于,步骤1)中三聚氰胺与乙醛酸的摩尔比为1:0.01-0.1。
4.根据权利要求1所述的高活性多孔g-C3N4光催化剂,其特征在于,步骤2)中,于管式炉中进行煅烧,煅烧温度为550℃并保持4h。
5.根据权利要求1所述的高活性多孔g-C3N4光催化剂,其特征在于,步骤3)中,在马弗炉中进行煅烧,煅烧温度为550℃并保持2h。
6.根据权利要求1所述的高活性多孔g-C3N4光催化剂在可见光下催化降解异丙醇中的应用。
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