[发明专利]显示基板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201811405634.X | 申请日: | 2018-11-23 |
公开(公告)号: | CN109524350B | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 全威;刘晴 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/77 | 分类号: | H01L21/77;H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;张博 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:
形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层,所述可形变膜层包括有对应所述显示基板的显示区域的镂空部,所述可形变膜层的尺寸大于所述显示基板的尺寸;
在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层;
控制所述可形变膜层的体积变大,使得位于所述可形变膜层上的电极层部分与位于所述显示区域的电极层部分自然分离;
将所述可形变膜层从所述显示基板上去除;
所述形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层包括:
采用贴膜工艺在所述显示基板的非显示区域贴附所述可形变膜层;
其中,可形变膜层采用以下任一种:电致伸缩材料,磁致伸缩材料,基底和位于基底上的发泡材料;
所述将所述可形变膜层从所述显示基板上去除包括:
采用机械剥离方式将所述可形变膜层从所述显示基板上去除。
2.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层之前,所述方法还包括:
形成所述显示基板的发光层。
3.根据权利要求2所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层包括:
采用溅射工艺在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的阴极层。
4.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述发泡材料由基体材料、催化剂、泡沫稳定剂以及发泡剂组成,所述基体材料选自塑料和橡胶。
5.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述控制所述可形变膜层的体积变大包括:
对所述发泡材料进行加热,使得所述可形变膜层的体积变大。
6.一种显示基板,其特征在于,采用如权利要求1-5中任一项所述的制作方法制作得到,所述显示基板的电极层不超出所述显示基板的显示区域。
7.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求6所述的显示基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造