[发明专利]一种验证设计规则检查脚本的方法有效

专利信息
申请号: 201811408981.8 申请日: 2018-11-23
公开(公告)号: CN109543308B 公开(公告)日: 2023-01-31
发明(设计)人: 李佳佳;姜立维;魏芳 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G06F30/398 分类号: G06F30/398
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 俞涤炯
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 验证 设计 规则 检查 脚本 方法
【权利要求书】:

1.一种验证设计规则检查脚本的方法,其特征在于,提供一设计规则检查脚本,所述设计规则检查脚本包括多条用于进行版图测试的版图设计规则;

建立一图形单元库,所述图形单元库包括符合一预设的图形分类规则的多个不同类别的图形单元,每个所述图形单元中包括多个相互之间几何特征关系各不相同且符合预设的特征关系规则的图形;

还包括以下步骤:

步骤S1,根据所述图形分类规则,从所述图形单元库中提取不同类别的多个所述图形单元;

步骤S2,将同一类别的所述图形单元映射在同一版图上,从而形成多个分别关联于各个类别的所述图形单元的测试版图;

步骤S3,依次于每个所述测试版图上对所述设计规则检查脚本进行验证测试并生成一测试结果;

步骤S4,判断所述测试结果是否符合对应类别的所述图形单元所对应的所述特征关系规则;

若否,则转向步骤S6;

步骤S5,判定所述设计规则检查脚本通过所述测试版图的验证测试,并进行发布;

步骤S6,对所述设计规则检查脚本进行修改,再转向所述步骤S3。

2.如权利要求1所述的验证设计规则检查脚本的方法,其特征在于,所述版图设计规则对所述图形的几何尺寸进行约束;所述几何尺寸包括长度、线宽、周长、面积以及所述图形之间的间距。

3.如权利要求1所述的验证设计规则检查脚本的方法,其特征在于,所述图形根据所述图形分类规则,分为处于同一工艺层的同层图形和不处于同一工艺层的不同层图形;

所述同层图形之间的几何特征关系包括间距;

所述不同层图形之间的几何特征关系包括间距、包围关系、延伸关系以及重叠关系。

4.如权利要求3所述的验证设计规则检查脚本的方法,其特征在于,所述图形分类规则包括对所述图形形状的定义;

根据所述定义,所述图形分为正交图形、45度角图形以及非正交非45度角图形;

所述正交图形的所述图形单元包括等于所述版图设计规则的正交图形单元、小于所述版图设计规则的正交图形单元以及大于所述版图设计规则的正交图形单元;

所述45度角图形的所述图形单元包括等于所述版图设计规则的45度角图形单元、小于所述版图设计规则的45度角图形单元以及大于所述版图设计规则的45度角图形单元;

所述非正交非45度角图形的所述图形单元包括等于所述版图设计规则的非正交非45度角图形单元、小于所述版图设计规则的非正交非45度角图形单元以及大于所述版图设计规则的非正交非45度角图形单元。

5.如权利要求4所述的验证设计规则检查脚本的方法,其特征在于,所述同层图形的所述正交图形、所述45度角图形以及所述非正交非45度角图形的图形单元分别包括:同层图形间距等于所述版图设计规则的图形单元、同层图形间距小于所述版图设计规则且不等于0的图形单元、同层图形间距小于所述版图设计规则且等于0的图形单元以及同层图形间距大于所述版图设计规则的图形单元。

6.如权利要求4所述的验证设计规则检查脚本的方法,其特征在于,所述不同层图形的所述正交图形、所述45度角图形以及所述非正交非45度角图形的图形单元分别包括:不同层图形间距等于所述版图设计规则的图形单元、不同层图形间距小于所述版图设计规则且不等于0的图形单元、不同层图形间距小于所述版图设计规则且等于0的图形单元以及不同层图形间距大于所述版图设计规则的图形单元。

7.如权利要求4所述的验证设计规则检查脚本的方法,其特征在于,所述不同层图形的所述图形单元还包括:不同层图形包围等于所述版图设计规则的图形单元、不同层图形包围小于所述版图设计规则且不等于0的图形单元、不同层图形包围小于所述版图设计规则且等于0的图形单元以及不同层图形包围大于所述版图设计规则的图形单元。

8.如权利要求4所述的验证设计规则检查脚本的方法,其特征在于,所述不同层图形的所述图形单元还包括:不同层图形延伸等于所述版图设计规则的图形单元、不同层图形延伸小于所述版图设计规则的图形单元以及不同层图形延伸大于所述版图设计规则的图形单元。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811408981.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top