[发明专利]一种光源结构、光学投影模组、感测装置及设备在审
申请号: | 201811411409.7 | 申请日: | 2018-11-24 |
公开(公告)号: | CN109541875A | 公开(公告)日: | 2019-03-29 |
发明(设计)人: | 田浦延 | 申请(专利权)人: | 深圳阜时科技有限公司 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20;G01B11/24 |
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地址: | 518055 广东省深圳市南山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光单元 光源结构 半导体基底 感测装置 光学投影 集合 模组 电子技术领域 被测目标 二维点阵 发射光束 感测 申请 三维 | ||
1.一种光源结构,其用于发射光束至一被测目标物上进行三维感测,所述光源结构包括半导体基底及形成在所述半导体基底上的多个发光单元,所述发光单元以二维点阵的形式分布在所述半导体基底上,所述发光单元可划分为多个发光单元集合,至少存在两个所述发光单元集合之间的归一化相关系数大于或等于0.3而小于1,至少存在一个发光单元集合内部的发光单元之间的归一化相关系数小于0.3。
2.如权利要求1所述的光源结构,其特征在于:每两个所述发光单元集合之间的归一化相关系数均大于或等于0.3而小于1。
3.如权利要求1所述的光源结构,其特征在于:所述发光单元集合包括的发光单元个数占全部发光单元总数的比例大于或等于10%,或者所述发光单元集合包括十个以上发光单元。
4.如权利要求1所述的光源结构,其特征在于:所述全部发光单元的总数大于或等于50。
5.如权利要求1所述的光源结构,其特征在于:所述光源结构包括两个发光单元集合,同一个所述发光单元集合内的发光单元之间的归一化相关系数小于0.3,所述两个发光单元集合之间的归一化相关系数大于等于0.3而小于或等于1。
6.如权利要求1所述的光源结构,其特征在于:所述光源结构包括两个发光单元集合,每个发光单元集合内的发光单元之间的归一化相关系数小于0.3,所述这两个发光单元集合之间的归一化相关系数大于等于0.3而小于或等于1。
7.一种光学投影模组,用于投射具有预设图案的图案化光束至被测目标物上进行三维感测,其包括光束调整元件、图案化光学元件及如权利要求1至6所述的光源结构,所述光束调整元件用于对光源结构所发出的光束进行调整以使其满足预设的传播特性要求,所述图案化光学元件用于将光源结构发出的光场进行重新排布以形成具有预设图案的图案化光束。
8.如权利要求1所述的光学投影模组,其特征在于:所述光学投影模组还包括驱动电路,所述驱动电路提供电流以驱动所述发光单元进行发光。
9.一种感测装置,其用于感测被测目标物的三维信息,其包括感测模组及如权利要求7或8中任意一项所述的光学投影模组,所述感测模组用于感测所述光学模组在被测目标物上投射的预设图案并通过分析所述预设图案的图像获取被测标的物的三维信息。
10.一种设备,包括权利要求9所述的感测装置,所述设备根据所述感测装置所感测到的被测目标物的三维信息来执行相应功能。
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