[发明专利]一种钛合金真空自耗重熔电流电压匹配的简易控制方法

权利要求书

1.一种钛合金真空自耗重熔电流电压匹配的简易控制方法，其特征在于：通过控制熔滴的方法，即选择合适的熔滴值，选择适当的搅拌方式，当其它熔炼条件改变时，可保证熔池的状态一致；

所述控制熔滴的方法，对于各牌号的钛及钛合金，在正常熔炼阶段，即使控制方式、熔速、搅拌、熔炼进程、水温因素不同，只有调节电压控制合适的熔滴值，能够使电流电压匹配，保证熔炼稳定进行，铸锭表面均匀一致；

所述合适的熔滴值，在熔炼的开始阶段控制熔滴值在1.5左右，保护结晶器；在熔炼的热封顶阶段，逐渐提高熔滴值至8以上，保证铸锭充填部位表面良好；

所述搅拌方式，相对于交流搅拌，直流搅拌时熔滴值相应减小。

2.根据权利要求1所述一种钛合金真空自耗重熔电流电压匹配的简易控制方法，其特征在于：TC4合金Φ508铸锭，交流搅拌，采用电流、电压控制方式，在正常熔炼阶段，通过调节电压将熔滴控制在0.3～0.8，逐渐提高电压至33.5V，使电流和电压匹配良好，熔炼过程平稳，铸锭上部、下部表面一致性比较好。

3.根据权利要求1所述一种钛合金真空自耗重熔电流电压匹配的简易控制方法，其特征在于：TC4合金Φ508铸锭，交流搅拌，采用熔速、电压控制方式，熔炼过程控制熔滴为0.3～0.8，适当降低电压至32.5V左右，熔炼过程平稳，铸锭上部、下部表面一致性比较好。

4.根据权利要求1所述一种钛合金真空自耗重熔电流电压匹配的简易控制方法，其特征在于：TC4合金Φ508铸锭，在正常熔炼阶段采用了相同的控制方式：电流、电压控制方式或熔速、电压控制方式，采用交流搅拌，调整电压，将熔滴值控制在0.3～0.8，铸锭表面质量良好。

5.根据权利要求4所述一种钛合金真空自耗重熔电流电压匹配的简易控制方法，其特征在于：TC4合金Φ508铸锭，在正常熔炼阶段采用了相同的控制方式：电流、电压控制方式或熔速、电压控制方式，采用直流搅拌，调整电压，将熔滴值控制在0.1～0.5，铸锭表面质量良好。

6.根据权利要求1所述一种钛合金真空自耗重熔电流电压匹配的简易控制方法，其特征在于：TC4合金Φ508铸锭，交流搅拌，进出口水温不同，控制不同的熔滴值；

所述进出口水温冬季偏低，相同熔炼参数，熔滴值为1以上，铸锭表面有喷溅，适当提高电压，使熔滴值降低；

所述进出口水温夏季偏高，相同熔炼参数，熔滴值会降低至0.3以下，铸锭表面不好，应适当降低电压，使熔滴值升高。

7.根据权利要求1所述一种钛合金真空自耗重熔电流电压匹配的简易控制方法，其特征在于：TC4合金Φ508铸锭，交流搅拌，随着熔炼进行，由于水流量变化导致熔速变化，进而导致熔滴变化，此时适度调整电压，将熔滴值控制在0.3～0.8，可保证熔池动态良好，铸锭表面质量良好。

8.根据权利要求1所述一种钛合金真空自耗重熔电流电压匹配的简易控制方法，其特征在于：TC4合金Φ508铸锭，起弧后控制较低电压34V，使弧长较短熔滴值在1.5左右，尽快形成较厚锭冠，保护结晶器头部提高结晶器使用寿命。

9.根据权利要求1所述一种钛合金真空自耗重熔电流电压匹配的简易控制方法，其特征在于：TC4合金Φ508铸锭，交流搅拌，在铸锭充填阶段，将熔滴值提高到2以上，随着充填进行，熔滴值逐步提高至8以上，保证铸锭充填部位的表面质量。