[发明专利]一种显示装置及方法有效
申请号: | 201811419160.4 | 申请日: | 2018-11-26 |
公开(公告)号: | CN109283735B | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 孟宪东;王维;谭纪风;赵文卿;孟宪芹 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1347 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 周娟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示装置 方法 | ||
1.一种显示装置,其特征在于,包括取光单元和光线调制单元,所述取光单元用于从背光中分别取出第一偏振光和第二偏振光,所述光线调制单元用于分别调制第一偏振光的灰阶和第二偏振光的灰阶,所述第一偏振光所具有的偏振方向所在直线和所述第二偏振光所具有的偏振方向所在直线处在非平行状态;
所述取光单元包括第一取光模块和第二取光模块,所述第一取光模块用于从背光中取出第一偏振光,所述第二取光模块用于从背光中取出第二偏振光;
所述第一取光模块包括M个第一液晶光栅,所述第二取光模块包括N个第二液晶光栅,M、N均为大于等于1的整数;
每个所述第一液晶光栅用于从背光中取出第一偏振光,每个所述第二液晶光栅用于从背光中取出第二偏振光;
每个所述第一液晶光栅包括第一电极对、第一类光栅以及容纳在第一类光栅狭缝内的第一液晶,每个所述第二液晶光栅包括第二电极对、第二类光栅以及设在第二类光栅狭缝内的第二液晶,所述第一类光栅的折射率与所述第二类光栅的折射率不同;
所述第一电极对用于控制第一液晶的偏转角度等于第一预设偏转角度,使得所述第一液晶在第一预设偏转角度对第二偏振光的折射率等于所述第一类光栅的折射率;
所述第二电极对用于控制第二液晶的偏转角度等于第二预设偏转角度,使得所述第二液晶在第二预设偏转角度对第一偏振光的折射率等于所述第二类光栅的折射率。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述M、N均为大于1的整数,其中,
相邻两个所述第一液晶光栅之间具有k个所述第二液晶光栅,k为大于等于0的整数;和/或,
相邻两个所述第二液晶光栅之间具有k个所述第一液晶光栅,k为大于等于0的整数。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述光线调制单元包括调制基板和遮光基板,所述调制基板和所述遮光基板之间设有液晶层,所述第一取光模块的出光面和第二取光模块的出光面均与所述调制基板相对;所述调制基板包括第一调制单元和第二调制单元,所述液晶层包括与所述第一调制单元相对的第一液晶区域以及与所述第二调制单元相对的第二液晶区域,所述遮光基板包括第一遮光区域和第二遮光区域;
所述第一取光模块在所述遮光基板的正投影位于所述遮光基板所包括的第一遮光区域内,所述第一调制单元用于调制所述第一液晶区域的液晶偏转角度,使得所述第一偏振光的灰阶在所述第一液晶区域的调节下发生变化;
所述第二取光模块在所述遮光基板的正投影位于所述遮光基板所包括的第二遮光区域内,所述第二调制单元用于调制所述第二液晶区域的液晶偏转角度,使得所述第二偏振光的灰阶在所述第二液晶区域的调节下发生变化。
4.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,
所述第一调制单元包括第一公共电极、第一像素单元以及位于所述第一公共电极和第一像素电极单元之间的第一绝缘层,所述第一像素电极单元在遮光基板的正投影位于所述遮光基板所包括的第一遮光区域内,所述第一取光模块在所述遮光基板的正投影位于所述遮光基板所包括的第一遮光区域内,所述第一像素电极单元与所述第一公共电极所形成的电场用于控制所述第一液晶区域的液晶偏转角度;
所述第二调制单元包括第二公共电极、第二像素电极单元以及位于所述第二公共电极和所述第二像素电极单元之间的第二绝缘层,所述第二像素电极单元在遮光基板的正投影位于所述遮光基板所包括的第二遮光区域内,所述第二取光模块在所述遮光基板的正投影位于所述遮光基板所包括的第二遮光区域内,每个所述第二像素电极单元与所述第二公共电极所形成的电场用于控制所述第二液晶区域的液晶偏转角度。
5.根据权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述第一像素电极单元包括条状延伸方向相同的多个第一条状电极,相邻两个第一条状电极之间具有第一空隙;所述第二像素电极单元包括条状延伸方向相同的多个第二条状电极,相邻两个第二条状电极之间具有第二空隙;每个第一条状电极的条状延伸方向与每个第二条状延伸方向不同。
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