[发明专利]一种新型旋转磁控圆型柱弧靶装置

说明书

本发明公开了一种新型旋转磁控圆型柱弧靶装置，包括壳体、第一绝缘垫、真空密封端盖装置、第一O型圈、屏蔽罩绝缘垫、轴芯挡圈、屏蔽罩、驱动轴芯、调心轴承、磁性密封装置、磁性液体、圆锥滚子轴承、小圆螺母、锁紧螺母、驱动同步带轮、电机支架、分水装置、同步带、电机同步带轮、电机涨紧装置、电机绝缘垫、驱动电机、轴用卡簧、第一旋转导电装置、第一端密封盖、第二O型圈、第二端密封盖、进水接头、出水接头、旋转磁棒装置、第三O型圈、第二旋转导电装置、靶材端密封盖和靶材，本发明有利于涂层的均匀性和提高附着力，实现离子镀膜的最佳工艺，设备运行稳定可靠，极大地提高生产效率。

技术领域

本发明涉及的是等离子体表面气相沉积技术领域，具体涉及一种新型旋转磁控圆型柱弧靶装置。

背景技术

在国内外，如今真空镀膜在机械、电子、能源、信息等领域已经得到了广泛应用，而在真空镀膜中，生产效率及质量非常受人关注。真空镀膜技术又称为气相沉积技术，主要包括物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。物理气相沉积是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子、或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法，物理气相沉积本身分为三种：真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜，近十年来发展相当快，已经成为当今最先进的表面处理方式之一。

本项目主要是关于真空离子镀领域的一种旋转柱弧装置，真空离子镀作为制备各种功能膜与装饰膜的主流技术，在近十年获得了长足的发展，它已被广泛应用于工业生产中的各种刀、模具等耐磨损材料的表面强化及日常生活中各种金属制品、工艺品的表面美化工艺。作为离子镀的关键技术—弧源技术也得到了飞速发展。目前，各种小多弧源、磁过滤金属真空弧源、矩形电磁控大面积弧源、柱状电弧源等已陆续进入了生产及科研领域。目前国内各厂家在旋转柱弧弧离子镀方面有如下一些缺点：溅射靶材上存在大颗粒，很难处理，靶材利用率不好，浪费原材料；磁铁长期泡在高温水里容易退磁，影响磁场强度；驱动装置属于动密封，容易漏气，使用周期短；引线的导电接触性不好，容易打弧等现象。

综上所述，本发明设计了一种新型旋转磁控圆型柱弧靶装置。

发明内容

针对现有技术上存在的不足，本发明目的是在于提供一种新型旋转磁控圆型柱弧靶装置，提供一种防水的永磁体磁场、磁性液体与永磁体及骨架油封的双道动密封，获得最佳的磁场约束效果，使弧斑均匀、细化，以达到阴极靶面的均匀烧蚀，延长靶的使用寿命，更有利于涂层的均匀性和提高附着力，实现离子镀膜的最佳工艺，设备运行稳定可靠，极大地提高生产效率。

为了实现上述目的，本发明是通过如下的技术方案来实现：一种新型旋转磁控圆型柱弧靶装置，包括壳体、第一绝缘垫、真空密封端盖装置、第一O型圈、屏蔽罩绝缘垫、轴芯挡圈、屏蔽罩、驱动轴芯、调心轴承、磁性密封装置、磁性液体、圆锥滚子轴承、小圆螺母、锁紧螺母、驱动同步带轮、电机支架、分水装置、同步带、电机同步带轮、电机涨紧装置、电机绝缘垫、驱动电机、轴用卡簧、第一旋转导电装置、第一端密封盖、第二O型圈、第二端密封盖、进水接头、出水接头、旋转磁棒装置、第三O型圈、第二旋转导电装置、靶材端密封盖和靶材，驱动轴芯上安装有调心轴承，驱动轴芯上的密封间隙沟槽内注入磁性液体，轴芯挡圈安装在调心轴承上，驱动轴芯的密封间隙处还安装有磁性密封装置，圆锥滚子轴承安装在壳体和驱动轴芯上，锁紧螺母和小圆螺母依次压紧圆锥滚子轴承设置，真空密封端盖装置通过螺丝固定在壳体上，驱动轴芯通过轴用卡簧安装固定有驱动同步带轮，驱动电机通过螺丝与电机绝缘垫固定，驱动电机、电机绝缘垫通过螺丝安装在电机支架上，电机支架安装在壳体上，电机同步带轮安装在驱动电机上，同步带将电机同步带轮与驱动同步带轮连接，电机支架上安装有用于张紧同步带的电机张紧装置，分水装置通过螺丝与电机支架和壳体固定，第一旋转导电装置固定在驱动轴芯上，分水装置上依次固定有第一端密封盖、第二O型圈、第二端密封盖，分水装置上设置有出水接头，进水接头设置在驱动轴芯左端，第一绝缘垫、第一O型圈、屏蔽罩绝缘垫、屏蔽罩依次通过螺丝固定在壳体上，靶材通过螺纹连接安装在驱动轴芯上，靶材外端通过第三O型圈设置有靶材端密封盖，靶材端密封盖内侧设置有第二旋转导电装置。