[发明专利]一种等离子体处理设备的进气装置

权利要求书

1.一种等离子体处理设备的进气装置，其特征在于，

包括：腔盖(1)，覆盖于反应腔室的正上方，两侧分别设置有单独的第一进气嘴(4)和第二进气嘴(5)，分别连接外部通入的两路工艺气体；

耦合窗(2)，位于腔盖(1)的内部上方，下表面与腔盖(1)之间设置有密封圈(6)，使腔盖(1)与反应腔室之间形成封闭的真空空间；

分区匀气盘(3)，位于腔盖(1)的内部，上表面正对耦合窗(2)，下表面面对反应腔室内部，反应气体通过下表面进入反应腔，

其中，所述分区匀气盘(3)呈圆盘状，外环边缘相对设有外圈进气槽(10)和中心进气孔(50)，所述外圈进气槽(10)连通第一进气嘴(4)和外圈匀气区(11)，所述中心进气孔(50)连通第二进气嘴(5)和中心匀气区(52)，

所述外圈匀气区(11)为圆环状，内部有环形分布的外圈进气孔(12)，其中，位于所述中心进气孔(50)一侧的圆环形状被打断，保留宽度为20～30mm的桥路，作为所述中心进气孔(50)的传输通路。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理设备的进气装置，其特征在于，

在所述分区匀气盘(3)的上表面、所述中心匀气区(52)的外侧放置密封圈(51)，通过压紧上部的所述耦合窗(2)，隔离两路反应气体。

3.根据权利要求1所述的等离子体处理设备的进气装置，其特征在于，

所述外圈进气孔(12)以所述外圈进气槽(10)为轴线对称分布，并且，所述外圈进气孔(12)的分布为阶梯状，在靠近外圈进气槽(10)的区域分布稀疏，远离外圈进气槽(10)的区域分布紧密。

4.根据权利要求1所述的等离子体处理设备的进气装置，其特征在于，

所述外圈进气孔(12)为沉头孔，沉头直径为2～4mm，通孔直径为0.5～1.5mm。

5.根据权利要求1所述的等离子体处理设备的进气装置，其特征在于，

所述中心进气孔(50)穿过所述分区匀气盘(3)的内部与竖直连通孔(54)相连通，所述竖直连通孔(54)经过通气槽(55)与所述中心匀气区(52)相连通。

6.根据权利要求1所述的等离子体处理设备的进气装置，其特征在于，

所述中心匀气区(52)呈环形状，内部设有多圈环形分布的内圈进气孔(53)。

7.根据权利要求6所述的等离子体处理设备的进气装置，其特征在于，

所述内圈进气孔(53)均匀分布或呈阶梯状分布，所述内圈进气孔(53)呈阶梯状分布时，在靠近通气槽(55)的区域分布稀疏，在远离通气槽(55)的区域分布紧密。

8.根据权利要求1所述的等离子体处理设备的进气装置，其特征在于，

所述腔盖(1)的材质为铝，表面镀有硬质氧化层，所述耦合窗(2)和所述分区匀气盘(3)材质为陶瓷或石英。