[发明专利]一种超平滑光电胶带离型膜及其制备方法

权利要求书

1.一种超平滑光电胶带离型膜，其特征在于：包括光学级PET基材，所述基材上附着光学膜，所述光学膜上附着一层阻隔涂层，所述阻隔涂层上附着离型层。

2.根据权利要求1所述的超平滑光电胶带离型膜，其特征在于：所述光学膜由以下重量份的各组分组成：

3.根据权利要求1所述的超平滑光电胶带离型膜，其特征在于：所述阻隔涂层为氯代苯并三唑类紫外线吸收剂。

4.根据权利要求1所述的超平滑光电胶带离型膜，其特征在于：所述离型层由以下重量份的各组分组成：

5.根据权利要求5所述的超平滑光电胶带离型膜，其特征在于：所述离型层的厚度为0.1-0.7微米。

6.根据权利要求5所述的超平滑光电胶带离型膜，其特征在于：所述交联剂为二异氰酸酯与皂荚提取物以20:1的比例混合得到。

7.根据权利要求1-6任意一项所述的超平滑光电胶带离型膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1)基材准备：利用热风清除基材表面水分，利用离子风枪清除基材的静电，利用硅胶除尘辊清除基材表面上的灰尘与异物；

步骤2)制备光学膜层：将消泡剂、光引发剂、聚丙烯酸酯、增稠剂和硅油混合搅拌均匀制得混合剂，控制粘度为500-800cps；

步骤3)涂覆光学膜层：将步骤2制备好的光学膜层均匀涂敷在准备好的基材上，进行第一次电加热烘干和风干，电加热烘干温度为120℃，电加热托辊旋转转速为10m/min；

步骤4)涂覆阻隔剂：将阻隔剂均匀涂布在步骤3得到的离型膜上，阻隔剂的湿涂布量为0.5g/㎡，有机硅油的烘干温度为120℃，烘干机速为10m/min；

步骤5)制备离型剂：乙烯基MQ有机硅树脂、环氧改性有机硅树脂、甲基氢醌、环氧丙烷、十二烷基缩水甘油醚和交联剂按照比例，混合均匀，制得离型剂；

步骤6)涂覆离型剂：将制备好的离型剂均匀涂在步骤3制备好的离型膜上，然后置于烘箱内，在130-150℃的温度下进行脱溶、固化，制得离型膜；

步骤7)对烘干固化好的离型膜进行收卷，包装。