[发明专利]导电胶膜、线路板及导电胶膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 201811423989.1 申请日: 2018-11-26
公开(公告)号: CN110783018A 公开(公告)日: 2020-02-11
发明(设计)人: 苏陟;高强;朱开辉;朱海萍 申请(专利权)人: 广州方邦电子股份有限公司
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;H01B13/00;C09J7/28;C09J7/20;C09J9/02;H05K1/02
代理公司: 44202 广州三环专利商标代理有限公司 代理人: 麦小婵;郝传鑫
地址: 510530 广东省广州市广州高*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 导电胶膜 导体层 胶膜层 凸部 导电胶层 印刷线路板 导电粒子 接触导通 凹陷部 地层 电子技术领域 接地稳定性 间隔设置 线路板 有效地 重叠率 刺穿 电阻 伸入 压合 制备
【说明书】:

发明涉及电子技术领域,公开了一种导电胶膜、线路板及导电胶膜的制备方法,其中,导电胶膜包括胶膜层、导体层和导电胶层,导体层设于胶膜层和导电胶层之间,导体层靠近胶膜层的表面包括多个第一凸部和多个第一凹陷部,多个第一凸部和多个第一凹陷部间隔设置,多个第一凸部伸入胶膜层,导电胶膜在压合使用时,通过第一凸部刺穿胶膜层并与印刷线路板的地层接触导通,确保了导电胶膜与印刷线路板的地层接触导通,有效地提高了导电胶膜的接地稳定性;此外,通过设置导体层,使得导电胶层中的大部分导电粒子能够与导体层接触,从而增加导电粒子的重叠率,降低了导电胶膜的电阻。

技术领域

本发明涉及电子技术领域,特别是涉及一种导电胶膜、线路板及导电胶膜的制备方法。

背景技术

导电胶膜在元件与线路板之间提供了机械连接和电气连接,因而被逐渐广泛地应用于微电子封装、印刷电路板、导电线路粘接等各种电子领域中。

目前,现有的导电胶膜一般包括导电胶层,其中,导电胶层内具有导电粒子;在实际应用中,导电胶膜在热压合后,导电胶膜的胶层熔融流入印刷线路板的接地孔中,使得导电胶层中的导电粒子通过接地孔与印刷线路板的地层接触导通,从而将聚集于印刷线路板上的静电荷导出。但是,在实施本发明的过程中,发明人发现现有技术中至少存在如下问题:由于受到应力、气候等因素的影响,导电胶膜的基体体积或形状容易发生渐变或突变,使得其内部的导电粒子的堆砌状态容易发生变化,从而使得导电胶膜内的导电通路易发生变化,导致了导电胶膜与线路板的地层的导通效果不理想,因此导致导电胶膜的接地稳定性较差。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种导电胶膜、线路板及导电胶膜的制备方法,其能够有效地提高导电胶膜的接地稳定性。

为了解决上述技术问题,本发明实施例提供一种导电胶膜,包括胶膜层、导体层和导电胶层,所述导体层设于所述胶膜层和所述导电胶层之间,所述导体层靠近所述胶膜层的一面为非平整表面,所述导体层靠近所述胶膜层的非平整表面包括多个第一凸部和多个第一凹陷部,多个所述第一凸部和多个所述第一凹陷部间隔设置,多个所述第一凸部伸入所述胶膜层。

作为优选方案,所述导体层靠近所述胶膜层的非平整表面上设有第一导体颗粒,所述第一导体颗粒集中分布在所述第一凸部上。

作为优选方案,所述导体层靠近所述导电胶层的一面为平整表面;

或者,所述导体层靠近所述导电胶层的一面为非平整表面,所述导体层靠近所述导电胶层的非平整表面包括多个第二凸部和多个第二凹陷部,多个所述第二凸部和多个所述第二凹陷部间隔设置,多个所述第二凸部伸入所述导电胶层。

作为优选方案,所述导体层靠近所述导电胶层的一面上设有第二导体颗粒。

作为优选方案,所述第一导体颗粒的形状为团簇状或挂冰状或钟乳石状或树枝状,和/或,所述第二导体颗粒的形状为团簇状或挂冰状或钟乳石状或树枝状。

作为优选方案,所述第一导体颗粒的数量为多个,多个所述第一导体颗粒规则或不规则地分布在所述导体层靠近所述胶膜层的一面上;多个所述第一导体颗粒连续或不连续地分布在所述导体层靠近所述胶膜层的一面上;多个所述第一导体颗粒的形状相同或不同;多个所述第一导体颗粒的尺寸相同或不同;和/或,

所述第二导体颗粒的数量为多个,多个所述第二导体颗粒规则或不规则地分布在所述导体层靠近所述导电胶层的一面上;多个所述第二导体颗粒连续或不连续地分布在所述导体层靠近所述导电胶层的一面上;多个所述第二导体颗粒的形状相同或不同;多个所述第二导体颗粒的尺寸相同或不同。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州方邦电子股份有限公司,未经广州方邦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811423989.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top