[发明专利]一种激光器畸变波前校正方法和装置在审
申请号: | 201811424172.6 | 申请日: | 2018-11-27 |
公开(公告)号: | CN109324411A | 公开(公告)日: | 2019-02-12 |
发明(设计)人: | 王钢;唐晓军;王文涛;任建峰;黄启泰 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00 |
代理公司: | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人: | 田卫平 |
地址: | 100015*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 畸变 自由曲面镜 校正 方法和装置 预设位置 激光器 面型 激光入射角 分布计算 入射激光 激光波 反射 共轭 预设 激光 测量 加工 | ||
1.一种激光器畸变波前校正方法,其特征在于,包括:
测量入射激光在预设位置的畸变波前分布;
根据预设激光入射角度和所述畸变波前分布计算与所述畸变波前分布共轭的面型分布;
根据所述面型分布加工自由曲面镜;
将所述自由曲面镜置于所述预设位置。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,将所述自由曲面镜置于所述预设位置之前,还包括:
测量所述入射激光在所述预设位置的光斑尺寸;
根据所述预设激光入射角度和所述光斑尺寸计算加工尺寸;
根据所述加工尺寸加工所述自由曲面镜。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述测量入射激光在预设位置的畸变波前分布之前,还包括:
对所述入射激光的光斑进行缩束,使所述光斑尺寸不超过畸变波前分布测量设备的CCD面阵尺寸。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,计算与所述畸变波前分布共轭的面型分布之后,还包括:
去除所述面型分布的突变点。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,去除所述面型分布的突变点之后,还包括:
补全所述面型分布的空位数据。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,畸变波前分布A与面型分布B的关系是:B=A/(2*cosα),其中,α是预设激光入射角度。
7.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述光斑尺寸a与所述加工尺寸b的关系是:b=a/cosα,其中,α是预设激光入射角度。
8.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
消除入射激光的离焦和象散。
9.一种激光器畸变波前校正装置,其特征在于,包括:
畸变波前分布测量设备,用于测量入射激光在预设位置的畸变波前分布;
计算模块,用于根据预设激光入射角度和所述畸变波前分布计算与所述畸变波前分布共轭的面型分布;
加工模块,用于根据所述面型分布加工自由曲面镜,加工后的自由曲面镜置于所述预设位置。
10.如权利要求9所述的装置,其特征在于,
所述畸变波前分布测量设备,还用于测量所述入射激光在所述预设位置的光斑尺寸;
所述计算模块,还用于根据所述预设激光入射角度和所述光斑尺寸计算加工尺寸;
所述加工模块,还用于根据所述加工尺寸加工所述自由曲面镜。
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