[发明专利]用于沉积钝化膜的方法及设备以及从而沉积的钝化膜

说明书

本公开涉及用于沉积钝化膜的方法及设备以及从而沉积的钝化膜，方法包括：将衬底支撑在衬底支撑件上；分别使用包括线性源气体喷嘴及线性反应气体喷嘴的线性沉积源来分别将源气体及反应气体注入到衬底上，所述线性源气体喷嘴及所述线性反应气体喷嘴在与衬底交叉的第一轴线方向并列安置，且同时，在与第一轴线方向交叉的第二轴线方向上移动衬底支撑件或线性沉积源，其中在移动衬底支撑件或线性沉积源的步骤中，在第二轴线方向中的一个方向上及另一方向上的移动交替地执行，且一个方向及另一方向上的移动距离不同。

技术领域

本公开涉及一种用于沉积钝化膜的方法及一种用于沉积钝化膜的设备，且更确切地说，涉及可减小沉积腔室长度的用于沉积钝化膜的方法及用于沉积钝化膜的设备以及从而沉积的钝化膜。

背景技术

有机电子元件，例如有机发光二极管(organic light emitting diode,OLED)、有机太阳能电池以及有机薄膜晶体管(有机TFT)，易受湿气及氧气的损害，且因此，需要钝化膜形成工艺来保护所述元件。近来，为了提高生产力，用于产生显示元件的玻璃衬底逐渐增大，且因此，用于沉积钝化膜的钝化膜沉积装置也处于具有更大大小的趋势中。

通过使用原子层沉积(atomic layer deposition,ALD)方法获得的钝化膜通过沉积SiO_x、AlO_x等等的薄膜而形成，且在相关技术中，钝化膜由通过线性沉积源使两个组份的材料在空间上分离而形成，所述线性沉积源包含多个线性喷嘴且将材料提供到衬底。

在原子层沉积方法中，由于沉积速度低，所以在线性沉积源中要求多个线性喷嘴以便获得高沉积速度。在使用多个线性喷嘴时，在通过线性沉积源扫描衬底的沉积表面的同时，应使衬底通过整个线性沉积源且执行全扫描以便在衬底上沉积均匀膜。因此，存在沉积腔室的长度增大及设备的占地面积增大的问题。

另外，各种问题根据钝化膜沉积设备的大小的增大发生。也就是说，问题发生不仅是因为用于安装钝化膜沉积设备的空间增大，而且还因为难以维持安装空间的清洁度等且难以执行钝化膜沉积设备的安装、维护等。

[专利文献]

(专利文献1)韩国专利第10-0467535号

发明内容

本公开提供一种用于沉积钝化膜的方法及一种用于沉积钝化膜的设备，其通过调节衬底相对于线性沉积源的扫描路径来防止非晶内含物层在衬底上的特定位置处重复层合，且沉积腔室的长度及设备的占地面积可减小。

根据示例性实施例，一种用于沉积钝化膜的方法包含：将衬底支撑在衬底支撑件上；以及使用包括线性源气体喷嘴及线性反应气体喷嘴的线性沉积源来分别将源气体及反应气体注入到衬底上，所述线性源气体喷嘴及所述线性反应气体喷嘴在与衬底交叉的第一轴线方向并列安置，且同时，在与所述第一轴线方向交叉的第二轴线方向上移动衬底支撑件或线性沉积源，其中在移动衬底支撑件或线性沉积源的步骤中，在第二轴线方向中的一个方向上及另一方向上的移动交替地执行，且一个方向及另一方向上的移动距离不同。

移动衬底支撑件或线性沉积源的步骤可包含：执行第一扫描，其中一个方向上及另一方向上的移动交替地执行，使得相对于线性沉积源，衬底在一个方向上的相对移动长于衬底在另一方向上的相对移动。

第一扫描可执行直到衬底的一个端部与线性沉积源的一个端部对准为止。

移动衬底支撑件或线性沉积源的步骤可还包含；执行第二扫描，其中一个方向上及另一方向上的移动交替地执行，使得衬底在另一方向上的相对移动长于衬底在一个方向上的相对移动。

在一个方向上及另一方向上的移动距离之间的差可为线性源气体喷嘴或线性反应气体喷嘴在第二轴线方向上的宽度的约10％到100％。