[发明专利]个人沉浸式装置及其显示器

权利要求书

1.一种个人沉浸式装置，包含：

基板，所述基板包括中心区域、彼此相对的第一边区域以及第二边区域，所述中心区域置于所述第一边区域与所述第二边区域之间；

多个子像素，所述多个子像素在所述基板上成矩阵布置；

平面化膜，所述平面化膜被施加于所述基板的整个表面之上；

滤色器和发光元件，所述滤色器和所述发光元件被设置在所述多个子像素中的相应的子像素中并且在所述平面化膜之上；以及

成像透镜，所述成像透镜在尺寸上比所述基板小，并且与所述基板间隔开给定的距离，

其中，在所述第一边区域和所述第二边区域中，所述发光元件与所述滤色器未对准，以将来自所述发光元件的所有光的方向调节为朝向尺寸比所述基板小的所述成像透镜。

2.如权利要求1所述的个人沉浸式装置，其中，在所述中心区域中，所述发光元件与所述滤色器对准。

3.如权利要求1所述的个人沉浸式装置，其中，未对准的程度随着距所述中心区域的距离的增大而逐渐增大。

4.如权利要求1所述的个人沉浸式装置，其中，在所述第一边区域和所述第二边区域中，被设置为离开所述基板的中心点的所述发光元件与所述滤色器未对准，且所述发光元件与所述滤色器的未对准为给定距离，并且连接所述发光元件的中心点与所述滤色器的中心点的线段以给定角度朝向所述中心区域倾斜。

5.如权利要求1所述的个人沉浸式装置，其中，在所述第一边区域和所述第二边区域中，所述发光元件与所述滤色器之间的未对准的程度是恒定的。

6.如权利要求1所述的个人沉浸式装置，其中，在所述第一边区域和所述第二边区域中，所述平面化膜的厚度随着距所述中心区域的距离增大而逐渐增大。

7.如权利要求1所述的个人沉浸式装置，其中，所述平面化膜在所述基板的中心点处具有最小的厚度，且在距所述基板的中心点最远的边缘处具有最大的厚度。

8.如权利要求7所述的个人沉浸式装置，其中，所述平面化膜的厚度以线性方式从所述最小厚度逐渐增大至所述最大厚度。

9.如权利要求7所述的个人沉浸式装置，其中，所述平面化膜的厚度以曲线方式从所述最小厚度逐渐增大至所述最大厚度。

10.如权利要求1所述的个人沉浸式装置，还包含用于所述多个子像素中的每一个子像素并且在所述平面化膜之下的薄膜晶体管，

所述发光元件均包含：

阳极，所述阳极连接所述薄膜晶体管并且在所述平面化膜之上；

有机发射层，所述有机发射层层叠于所述阳极之上；以及

阴极，所述阴极层叠于所述有机发射层之上。

11.如权利要求1所述的个人沉浸式装置，其中，所述滤色器具有均匀的尺寸，并且以规则的间隔均匀地布置在所述基板上。