[发明专利]真空计

说明书

本发明提供一种真空计，即使感测机构暴露在导入了各种材料气体的气氛的情况下，也能够防止物质向所述感测机构堆积，能够实现长寿命化。所述真空计包括：感测机构，与测量空间内的气氛接触，输出与所述测量空间内的压力对应的输出信号；以及加热器，对所述感测机构进行温度调节，所述加热器的设定温度可变。

技术领域

本发明涉及真空计。

背景技术

例如在半导体加工中，在进行成膜的真空室内设有用于监测其真空度的真空计。如专利文献1所示，真空计包括：感测机构，暴露在真空室内的气氛中；以及压力计算电路，输入从感测机构与压力对应输出的输出信号，并转换为表示压力的压力信号。

近年来，伴随半导体加工的微小化，向真空室内导入多种多样的材料气体，在新的材料气体中存在有相比于以往的材料气体冷凝温度非常高的气体。

因此，容易冷凝的材料气体的一部分在感测机构上冷凝，其成分堆积，会出现针对压力的灵敏度降低、作为传感器的寿命缩短等问题。如果感测机构上产生堆积，则不得不从真空室更换真空计整体，由于更换和校准需要花费时间，半导体制造工序的停工时间变长，所以生产率恶化。

此外，如果为了使材料气体不冷凝而设定为高温，则会产生分解，有时不能实现所意图的成分的成膜。因此，现状是当向真空室内导入多种材料气体时，单独准备与材料气体的特性对应的真空计。

现有技术文献

专利文献1：日本专利公报特许第4437578号

发明内容

本发明是为了解决如上所述的问题而做出的发明，本发明的目的是提供真空计，即使在感测机构暴露在导入有各种材料气体的气氛的情况下，也能够防止物质向所述感测机构堆积、能够实现长寿命化。

本发明的真空计，其包括：感测机构，与测量空间内的气氛接触，输出与所述测量空间内的压力对应的输出信号；以及加热器，对所述感测机构进行温度调节，所述加热器的设定温度可变。

按照这样的真空计，能够例如根据测量空间内存在的气体的冷凝温度和分解温度，在感测机构中保持使气体不产生冷凝的温度，即使在测量空间内导入各种气体的情况下，也能够防止气体的成分向感测机构堆积。

因此，由于能构持续长期保持作为真空计的灵敏度、延长其寿命，所以例如能够降低半导体加工的停工时间的发生频率，由此能够提高生产率。

为了无需从真空计的外部接收用于控制所述加热器的温度控制信号，仅在所述真空计内实现所述加热器的温度控制，并简化布线等的结构，优选的是，所述真空计包括：传感器模块，具备所述感测机构；以及主体模块，具备：压力计算电路，输入所述感测机构的输出信号，计算压力值；以及加热器控制电路，控制所述加热器的温度，所述加热器控制电路以使所述加热器的温度成为输入的设定温度的方式控制所述加热器的电流或电压。

即使对感测机构充分进行了温度调节，也存在有虽然是极少量但是气体成分发生了堆积而最终需要进行真空计的更换的情况。为了即使在这种情况下也可以仅更换有问题的感测机构部分而无需更换整体，例如能够使半导体加工的停工时间成为最小，优选的是，所述传感器模块相对于所述主体模块可装拆。