[发明专利]马赛克拼接产品拼接区调整方法及装置有效
申请号: | 201811429414.0 | 申请日: | 2018-11-27 |
公开(公告)号: | CN109597224B | 公开(公告)日: | 2021-04-23 |
发明(设计)人: | 丁华龙;李剑;单丹阳;褚维民;张斌;程校昌 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G03F7/22 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂;刘巍 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 马赛克 拼接 产品 调整 方法 装置 | ||
本发明涉及一种马赛克拼接产品拼接区调整方法及装置。该马赛克拼接产品拼接区调整方法包括:步骤10、在曝光机台坐标系中补正光罩的长度尺寸;步骤20、在曝光机台坐标系中选定影响长度尺寸的照射并固定其坐标,使其成为不可移动的照射;对于拼接成一个整体的面板的多个照射,以其中不可移动的照射为参照,调整其余可移动的照射的坐标以使相邻的照射的拼接处实现无缝接合。本发明还提供了一种马赛克拼接产品拼接区调整装置。本发明马赛克拼接产品拼接区调整方法及装置由于采用针对马赛克拼接产品的新的优化手法,使得拼接产品的亮暗不均得到控制;也使得面板的首件完成时间大幅缩短。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种马赛克拼接产品拼接区调整方法及装置。
背景技术
液晶显示器(LCD)大部分为背光型液晶显示器,其是由液晶显示面板及背光模块(backlight module)所组成。一般的液晶显示面板包含彩色滤光片(Color Filter,CF)基板及薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)阵列基板。CF基板上设有多个彩色滤光片和共同电极。TFT阵列基板上设有多条彼此平行的扫描线、多条彼此平行的数据线、多个薄膜晶体管及像素电极。
有机发光二极管(OLED)具备自发光能力,因此不需背光源,同时具有对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造简单等优异特性,被认为是下一代的平面显示器新兴技术。
在显示技术领域,平板显示技术(LCD、OLED)面板尺寸逐渐变大,所以工厂端近接式曝光机台(例如日本精工(NSK)近接式曝光机台)需要以马赛克(mosaic)拼接的方式进行大尺寸产品的曝光生产。从而拼接区的关键尺寸(CD)密集点会直接影响产品的亮暗不均(Mura)程度。拼接区关键尺寸不良,造成拼接亮暗不均,严重会导致模组制程(MOD)点灯会出现色偏等异常,降低产品的品质。
参见图1A及图1B,图1A为一种现有大尺寸面板马赛克拼接布局示意图,图1B为相应的光罩设计示意图。如图1A所示,在玻璃基板1上布局设置有两个第一尺寸的面板2和两个第二尺寸的面板3,面板2可以为49英寸的面板,面板3可以为75英寸的面板;如图1B所示,光罩4上设有用于特定一道光罩制程的图案5、图案61、图案62及图案63,利用曝光机台照射光罩4可以在玻璃基板1上形成相应的膜层,该道光罩制程具体可以为形成黑色矩阵膜层的光罩制程,图案5对应用于形成面板2的膜层,图案61、图案62及图案63对应用于形成面板3的膜层;进行曝光制程时,玻璃基板1位置保持固定,调整光罩4与玻璃基板1的相对位置后利用曝光机照射光罩4进行曝光。图1A中,每个虚线框表示曝光机台通过光罩4的一个照射(shot),也就是确定光罩4相对于玻璃基板1的位置后,曝光机台根据光罩4的相应图案对基板上相应材料的一次曝光;在此现有设计中,对于49英寸的面板2不采用拼接设计,每个面板2的膜层需要光罩4的图案5在对应位置的一个照射直接进行曝光;对于75英寸的面板3采用拼接设计,每个面板3的膜层需要利用光罩4的图案61、图案62或者图案63在对应位置分别进行六个照射以马赛克拼接的方式进行曝光,相邻的拼接在一起的两个照射在拼接处重合并且形成马赛克拼接区,从而拼接区的关键尺寸密集点会直接影响产品的亮暗不均程度;曝光机台使用光罩4完成整个玻璃基板1的曝光,需要利用光罩4分别在对应位置进行十四个照射。
参见图2A和2B,其分别为马赛克拼接面板产品拼接区不良和拼接区优所得到的产品品质示意图。参见图2A,面板产品的拼接区关键尺寸不良,将造成拼接区亮暗不均,严重时导致模组制程点灯会出现色偏等异常,降低产品的品质;因此亟需提供一种马赛克拼接产品拼接区调整方法及装置,改善拼接区亮暗不均,实现图2B所示的产品品质。
发明内容
因此,本发明的目的在于提供一种马赛克拼接产品拼接区调整方法及装置,应对马赛克拼接产品在调整时候的困扰,改善拼接区亮暗不均。
为实现上述目的,本发明提供了一种马赛克拼接产品拼接区调整方法,包括:
步骤10、在曝光机台坐标系中补正光罩的长度尺寸;
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