[发明专利]烟雾判定方法、基板处理方法及基板处理装置

说明书

本发明提供一种能够定量地判定腔室内的烟雾的产生状况是否正常的烟雾判定方法、基板处理方法及基板处理装置。在一边在腔室的内部水平地保持基板、一边对基板的上表面供给处理液的装置中，判定烟雾的产生状况。具体来说，首先，对腔室内的规定的拍摄区域进行拍摄(步骤S62)。接着，基于通过拍摄而获取到的拍摄图像的亮度值，判定腔室内的烟雾的产生状况(步骤S63)。由此，能够定量地判定腔室内的烟雾的产生状况是否正常。

技术领域

本发明涉及一种在半导体晶片等薄板状的基板的制造工序中所使用的装置中，判定烟雾的产生状况的方法、基板处理方法及基板处理装置。

背景技术

先前，在半导体晶片的制造工序中，是使用对基板供给光致抗蚀剂液、蚀刻液、洗涤液、纯水等各种处理液，对基板的表面进行处理的基板处理装置。关于现有的基板处理装置，例如，已记载于专利文献1中。专利文献1所述的装置包括保持基板并使所述基板旋转的旋转机构、以及对借由旋转机构而旋转的基板的被处理面供给处理液的供给喷嘴(参照技术方案1、图1)。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2010-056405号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

在这种基板处理装置中，对基板的表面已供给特定的处理液时，有时会产生被称为烟雾(fume)的包含多个微粒(例如，固体微粒、水滴等微小液体等)的环境气体。例如，在将硫酸与过氧化氢水的混合液即SPM(sulfuric acid and hydrogen peroxide mixture)洗涤液供给至基板的表面的工序中，会产生所述烟雾。众说周知，特别是在供给150℃以上的高温的SPM洗涤液的情况下，或者在供给SPM洗涤液之后，使硫酸的供给停止而只追加供给过氧化氢水的情况下，容易产生烟雾。

当这种烟雾扩散至基板处理装置的腔室内并附着于各部时，所附着的烟雾不久会固化而变为颗粒(particle)。接着，所述颗粒有可能附着在基板的表面，对基板进行污染。因此，理想的是准确掌握腔室内的烟雾的产生状况，在异常时进行处置。但是，在现有的基板处理装置中，腔室内的烟雾的产生状况是否正常，是人通过肉眼观察来判断。

本发明是鉴于如上所述的情况而完成的，目的在于提供一种能够定量地判定腔室内的烟雾的产生状况是否正常的烟雾判定方法及基板处理装置。

[解决问题的技术手段]

为了解决所述问题，本申请的第一发明是一种烟雾判定方法，判定一边在腔室的内部水平地保持基板、一边对基板的上表面供给处理液的装置中的烟雾的产生状况，所述烟雾判定方法包括如下的工序：a)对所述腔室内的规定的拍摄区域进行拍摄；以及b)基于通过所述工序a)而获取到的拍摄图像的亮度值，判定所述腔室内的烟雾的产生状况。

本申请的第二发明根据第一发明的烟雾判定方法，其中所述工序b)包括如下的工序：b-1)生成预先获取到的所述拍摄区域的参考图像与所述拍摄图像的亮度值的差分图像；以及b-2)基于所述差分图像，判定所述腔室内的烟雾的产生状况。

本申请的第三发明根据第二发明的烟雾判定方法，其中所述拍摄区域包含至少一个评估区域，在所述工序b-2)中，基于所述差分图像中的所述评估区域的亮度值的合计值或平均值，判定所述评估区域内的烟雾的产生状况。

本申请的第四发明根据第三发明的烟雾判定方法，其中在所述工序b-2)中，基于所述差分图像中的所述评估区域的亮度值的合计值或平均值与预先设定的第一阈值的比较结果，判定所述评估区域内的烟雾的产生状况。