[发明专利]一种斑点投影模组在审

专利信息
申请号: 201811432273.8 申请日: 2018-11-28
公开(公告)号: CN109491189A 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 高乾坤;盛赞;李骊;王行;周晓军;杨淼;李朔 申请(专利权)人: 北京华捷艾米科技有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G02B27/12;G02B27/10
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 楼高潮
地址: 100193 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 振幅调制单元 投影模组 斑点 斑点图案 激光光源 位相信息 准直光束 准直透镜 投影透镜投影 衍射光学元件 振幅调制技术 场景 调制单元 调制输出 目标图案 深度相机 投影光斑 投影透镜 鲁棒性 目标波 信噪比 杂散光 级联 模组 预设 调制 投影 三维 测量
【权利要求书】:

1.一种斑点投影模组,其特征在于:

所述模组依次包括激光光源、准直透镜、复振幅调制单元和投影透镜,

其中,所述激光光源发出的光束,经过所述准直透镜,所述准直透镜将所述激光光源发出的激光光束进行准直得到准直光束,所述准直光束经过复振幅调制单元对目标波前的振幅和/或位相信息进行调制,然后经过所述投影透镜投影至实际待测场景以获得预设的斑点图案模式,

所述复振幅调制单元包括振幅调制器和/或位相调制器。

2.根据权利要求1所述的斑点投影模组,其特征在于:

所述复振幅调制单元为级联调制单元,包括一个振幅调制器和一个位相调制器;

准直光束入射至所述复振幅调制单元,由振幅调制器和位相调制器分别对目标复振幅波前的振幅和位相部分进行调制输出,调制后的光束经过投影透镜投影至实际待测场景以获得预设的斑点图案模式。

3.根据权利要求1所述的斑点投影模组,其特征在于:

所述复振幅调制单元为双相位式复振幅调制单元,包括两个位相调制器,

所述准直光束被分为两束后,分别由两个位相调制器进行调制,两个位相调制器分别加载根据目标图案波前复振幅信息分解产生的两个位相分量,然后再合光并经过所述投影透镜投影至实际待测场景中。

4.根据权利要求1所述的斑点投影模组,其特征在于:

所述复振幅调制单元为双振幅式复振幅调制单元,包括两个振幅式调制器,

所述准直光束分为两束,分别由两个振幅式调制器进行调制,两个振幅式调制器分别加载根据目标图案波前复振幅信息分解产生的两个振幅式分量,并在其中一路光束上通过位相单元在振幅式调制器之间产生π/2或π/2+2nπ的位相差,其中n为正整数,然后再合光并经过所述投影透镜投影至实际待测场景中。

5.根据权利要求2-4中任意一项所述的斑点投影模组,其特征在于:

所述激光光源为边发射激光器或者垂直腔面发射激光器。

6.根据权利要求2-4中任意一项所述的斑点投影模组,其特征在于:

所述准直透镜与投影透镜为单透镜、组合透镜、全息透镜、微透镜阵列或菲涅尔透镜中的一种或多种的组合。

7.根据权利要求2-4中任意一项所述的斑点投影模组,其特征在于:

所述振幅调制器为电子光阀或其他能够实现光振幅表达的器件,所述位相调制器可使用液晶显示器或硅基液晶或其他能够实现光位相表达的器件。

8.根据权利要求3或4所述的斑点投影模组,其特征在于:

所述分光和所述合光采用半反半透镜或者其他棱镜系统。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京华捷艾米科技有限公司,未经北京华捷艾米科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811432273.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top