[发明专利]基体的表面涂层及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811432996.8 申请日: 2018-11-28
公开(公告)号: CN109778117A 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 汪爱英;魏菁;李汉超;陈仁德;张栋 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/32
代理公司: 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 代理人: 李丽华
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 表面涂层 非晶碳层 制备 碳原子 杂化 磁过滤阴极真空弧沉积 交替设置 高腐蚀 防护
【权利要求书】:

1.一种基体的表面涂层,其特征在于,所述表面涂层包括多个依次且相互交替设置的第一非晶碳层和第二非晶碳层,所述第一非晶碳层中的sp3杂化的碳原子含量为10%~45%,所述第二非晶碳层中的sp3杂化的碳原子含量为60%~85%。

2.根据权利要求1所述的基体的表面涂层,其特征在于,所述第一非晶碳层和在所述第一非晶碳层上相邻的第二非晶碳层的厚度之和为10nm~50nm。

3.根据权利要求1所述的基体的表面涂层,其特征在于,所述第一非晶碳层和在所述第一非晶碳层上相邻的第二非晶碳层的厚度之比为1:(0.6~1.5)。

4.根据权利要求1所述的基体的表面涂层,其特征在于,该多个第一非晶碳层中每一所述第一非晶碳层的sp3杂化的碳原子含量相同;及/或

该多个第二非晶碳层中每一所述第二非晶碳层中的sp3杂化的碳原子含量相同;及/或

该多个第一非晶碳层中每一所述第一非晶碳层的厚度相同;及/或

该多个第二非晶碳层每一所述第二非晶碳层的厚度相同。

5.根据权利要求1所述的基体的表面涂层,其特征在于,所述第一非晶碳层设置于所述基体表面,所述第一非晶碳层及第二非晶碳层的层数均为n,2≤n≤60。

6.根据权利要求5所述的基体的表面涂层,其特征在于,所述基体上还包括一涂层,所述第一非晶碳层设置于所述涂层表面。

7.根据权利要求1所述的基体的表面涂层,其特征在于,所述基体包括硬质合金。

8.一种基体的表面涂层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)提供基体;

(2)采用磁过滤阴极真空弧沉积方法在所述基体表面沉积第一非晶碳层,其中,所述基体上施加的第一偏压为-150V~-500V;

(3)采用磁过滤阴极真空弧沉积方法在所述第一非晶碳层表面沉积第二非晶碳层,所述基体上施加的第二偏压为-50V~-80V;

(4)交替重复进行步骤(2)和步骤(3),得到表面涂层。

9.根据权利要求8所述的基体的表面涂层的制备方法,其特征在于,步骤(4)中,步骤(2)和步骤(3)的重复次数均为2~60。

10.根据权利要求8所述的基体的表面涂层的制备方法,其特征在于,步骤(2)中第一非晶碳层的沉积时间为3min~25min;

步骤(3)中第二非晶碳层的沉积时间为2min~10min;

步骤(2)和步骤(3)中,所述磁过滤阴极真空弧沉积方法中的电弧源电流均为60A~80A,弯管偏压均为10V~30V。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院宁波材料技术与工程研究所,未经中国科学院宁波材料技术与工程研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811432996.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top