[发明专利]一种内设交叉阵列可单向拦截杂质的微流控芯片

权利要求书

1.一种内设交叉阵列可单向拦截杂质的微流控芯片，其特征在于由基片和立体交叉阵列键合构成，基片内开有两端开放的“凵”形腔室，该腔室包括样品入口、样品检测单元、样品出口。所述样品入口与样品检测单元以及样品出口依次相连通；

所述样品入口位于基片“凵”形腔室的其中一臂，具体包括样品过滤室、滤液收集室和多个柱状体组成的立体交叉阵列；样品过滤室与滤液收集室上下设置组合成圆柱形腔室，样品过滤室入口位于圆柱形腔室顶部，滤液收集室出口位于圆柱形腔室下端侧壁上；立体交叉阵列设置在样品过滤室与滤液收集室间；

所述多个柱状体组成的立体交叉阵列由多个柱状体交错成网状构成；

所述样品出口位于基片“凵”形腔室的另一臂，具体包括样品出口室入口、样品出口室、样品出口室出口；样品出口室为圆柱形腔室，样品出口室入口位于圆柱形腔室下端侧壁上，样品出口室出口位于圆柱形腔室顶部。

2.如权利要求1所述的一种内设交叉阵列可单向拦截杂质的微流控芯片，其特征在于上述微流控芯片的样品过滤室的尺寸为：1500μm≤圆柱形腔室直径≤3000μm,30μm≤样品过滤室高度≤50μm。

3.如权利要求1所述的一种内设交叉阵列可单向拦截杂质的微流控芯片，其特征在于上述微流控芯片的滤液收集室的尺寸为：1500μm≤圆柱形腔室直径≤3000μm,30μm≤滤液收集室高度≤50μm。

4.如权利要求1所述的一种内设交叉阵列可单向拦截杂质的微流控芯片，其特征在于上述微流控芯片滤液收集室出口的宽度为495～505μm，高度为30～50μm。

5.如权利要求1所述的一种内设交叉阵列可单向拦截杂质的微流控芯片，其特征在于上述微流控芯片多个柱状体组成的立体交叉阵列中相邻柱状体之间的最小距离是40μm。

6.如权利要求1所述的一种内设交叉阵列可单向拦截杂质的微流控芯片，其特征在于上述微流控芯片样品出口的样品出口室的尺寸为：1500μm≤圆柱形腔室直径≤3000μm,60μm≤圆柱形腔室高度≤100μm。

7.如权利要求1所述的一种内设交叉阵列可单向拦截杂质的微流控芯片，其特征在于上述微流控芯片样品出口室入口的宽度为495～505μm，高度为30～50μm。